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50nm及50nm以下同步辐射X射线光刻光束线设计 被引量:1
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作者 谢常青 陈大鹏 +5 位作者 李兵 叶甜春 伊福廷 彭良强 韩勇 张菊芳 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期321-324,共4页
X射线光刻相对于其他下一代光刻技术而言有许多优点,比如其工艺宽容度大、成品率高、景深大、曝光视场大、成本低等,更为重要的是,其技术已经比较成熟。对于 100nm 同步辐射 X 射线光刻系统而言,它采用的波长通常为 0.7—1.0nm,而当光... X射线光刻相对于其他下一代光刻技术而言有许多优点,比如其工艺宽容度大、成品率高、景深大、曝光视场大、成本低等,更为重要的是,其技术已经比较成熟。对于 100nm 同步辐射 X 射线光刻系统而言,它采用的波长通常为 0.7—1.0nm,而当光刻分辨率达到 50nm 以下时,采用的同步辐射 X 射线波长范围应该为 0.2—0.4 nm。探讨了在北京同步辐射 3B1A 光刻束线上进行 50nm X 射线光刻的可能性。 展开更多
关键词 X射线光刻 同步辐射 束衍生法 光刻分辨率
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深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0
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作者 谢常青 王德强 +4 位作者 陈大鹏 叶甜春 伊福廷 韩勇 张菊芳 《微细加工技术》 2004年第4期27-30,35,共5页
介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件———XLSS1 0。该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模... 介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件———XLSS1 0。该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模拟计算,发现模拟结果与实验结果吻合很好,且模拟结果的特征尺寸宽度与实验结果的特征尺寸宽度误差小于±10%。 展开更多
关键词 X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程
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