基于光束扫描的光场匀化技术

提出一种新型的光束扫描匀光方法。扫描干涉光刻后基板处的整体光场强度可以实现均匀分布,进而光栅基板处的曝光剂量就可以实现宏观上的均匀分布。对扫描匀光方法的扫描参数进行数值分析,并开展相关实验。扫描匀光的实验结果表明,当步进距离与光斑半径之比小于等于1.2时,经过光束扫描叠加后,基板处的光场均匀性优于99.00%,相较传统高斯截光的方式,均匀性至少提高5%;引入参考光进行条纹漂移锁定控制后,在?200 mm的扫描过程中,光束的相位变化小于±0.015个干涉条纹周期,实现了光束扫描过程中条纹“静止”在基板位置处的效果。