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板阵栅降散射性能初步研究
1
作者
肖波
刘军
刘进
《核电子学与探测技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期308-311,共4页
高能闪光照相中,散射是影响密度反演精度的主要因素。论文提出了加工工艺比多孔网栅更简单的板阵栅降散射器件,理论分析和MC模拟结果表明,板阵栅的降散射效果与多孔网栅大致相当。针对使用板阵栅(多孔网栅)后剩余的少量散射,通过理论分...
高能闪光照相中,散射是影响密度反演精度的主要因素。论文提出了加工工艺比多孔网栅更简单的板阵栅降散射器件,理论分析和MC模拟结果表明,板阵栅的降散射效果与多孔网栅大致相当。针对使用板阵栅(多孔网栅)后剩余的少量散射,通过理论分析,提出了一种进一步降低散射影响的方法,该方法能使剩余散射进一步降低2~3倍,从而进一步降低了板阵栅的加工难度。
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关键词
闪光照相
板阵栅
降散射
多孔网
栅
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职称材料
题名
板阵栅降散射性能初步研究
1
作者
肖波
刘军
刘进
机构
中国工程物理研究院流体物理研究所
出处
《核电子学与探测技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期308-311,共4页
基金
中物院发展基金项目(2009A0203013)
文摘
高能闪光照相中,散射是影响密度反演精度的主要因素。论文提出了加工工艺比多孔网栅更简单的板阵栅降散射器件,理论分析和MC模拟结果表明,板阵栅的降散射效果与多孔网栅大致相当。针对使用板阵栅(多孔网栅)后剩余的少量散射,通过理论分析,提出了一种进一步降低散射影响的方法,该方法能使剩余散射进一步降低2~3倍,从而进一步降低了板阵栅的加工难度。
关键词
闪光照相
板阵栅
降散射
多孔网
栅
Keywords
X - ray photography
plate - array - grating
scattering suppression
multihole - grating
分类号
TL99 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
板阵栅降散射性能初步研究
肖波
刘军
刘进
《核电子学与探测技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013
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