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超辐射发光管端面AR膜的设计与制备
1
作者
常进
张军
+6 位作者
王定理
刘应军
甘毅
李林松
黄晓东
刘涛
邬江帆
《光学仪器》
2004年第2期51-54,共4页
在中心波长1310nm的InGaAsP半导体激光器端面设计并镀制了剩余反射率小于0.03%的三层减反射膜,得到了放大自发辐射波纹小于0.5dB的超辐射发光管。
关键词
宽带增透膜
超辐射发光管
极低剩余反射率
放大自发辐射
半导体激光器
三层减
反射
膜
下载PDF
职称材料
题名
超辐射发光管端面AR膜的设计与制备
1
作者
常进
张军
王定理
刘应军
甘毅
李林松
黄晓东
刘涛
邬江帆
机构
武汉邮电科学研究院光迅科技有限责任公司
出处
《光学仪器》
2004年第2期51-54,共4页
基金
国家"863计划"资助项目(2003AA311080)
文摘
在中心波长1310nm的InGaAsP半导体激光器端面设计并镀制了剩余反射率小于0.03%的三层减反射膜,得到了放大自发辐射波纹小于0.5dB的超辐射发光管。
关键词
宽带增透膜
超辐射发光管
极低剩余反射率
放大自发辐射
半导体激光器
三层减
反射
膜
Keywords
wide band AR film
super-luminescent diode
ultra-low reflectivity
amplified spontaneus emission(ASE)
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
超辐射发光管端面AR膜的设计与制备
常进
张军
王定理
刘应军
甘毅
李林松
黄晓东
刘涛
邬江帆
《光学仪器》
2004
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