盘状液晶的枝蔓化、特征及时间演化

本文研究了盘状液晶RHO的枝蔓化、生长特征及时间演化,实验表明,RHO液晶的枝蔓化结构对于表面处理、液膜厚度及衬底材料的影响是敏感的,枝蔓结构的尖端速度在连续冷却的条件下保持常数,尖端速度对于过冷率的函数关系是线性的,针对实验和目前简化理论的歧离,我们指出,在远离平衡的条件下和连续冷却的过程中,热涨落和维度性在枝蔓化中起着重要的、不可忽略的作用。