染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性

用氯氟酸硝酸水溶液对硅单晶抛光片进行染色腐蚀，制备了多孔硅．本文研究染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性，特别是激发光强度和波长与发射光强度与波长的关系，多孔硅的稳定性和响应特性．

染色腐蚀法制备多晶硅的绒面

为了降低光的反射 ,应用染色腐蚀法制备多晶硅的绒面 .对多晶硅的绒面进行了反射率和 SEM形貌测量 .在适当的腐蚀液中制备的 3× 3 cm2的多晶硅 ,其表面反射率在 3 0 0～ 1 0 0 0 nm波长范围为5 .7% .

多孔硅研究的回顾与展望

回顾了多孔硅的研究历史、制备方法、形成机理以及发光机理的研究现状,同时对多孔硅的发展作了展望。

噻唑类化合物应用研究新进展

噻唑环是一类重要的含氮硫杂原子的五元芳杂环,其特殊的结构使得噻唑类化合物在化学、药学、生物学和材料科学等诸多领域具有广阔的应用前景,显示出巨大的开发价值,受到广泛关注.本文结合作者的研究工作,参考国内外近五年文献,系统地综述了噻唑类化合物在医药、农药、材料、生物染色剂和超分子化学领域应用研究进展.