柱弧离子镀制备Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬质膜

利用自制的柱弧离子镀膜机,在不同硬度基体上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC多层复合膜。膜呈深黑色,反射率小于14%,亮度值L*小于43,沉积速率约为0.78μm/h,表面分布较多液滴缺陷。膜的力学性能测试受基体硬度和膜层厚度影响较大,基体越硬、膜层越厚,膜的硬度以及与基体的结合力测试结果越大。YW2硬质合金基体上制备0.82μm的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=3229,结合力为26.70 N。该设备和工艺已成功应用于工业生产。

柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深。