用于强功率半导体激光器的石英柱微透镜阵列

采用光刻热熔法及离子束溅射刻蚀制作面阵石英柱微透镜阵列．表面探针和扫描电子显微镜的测试表明，在不同的工艺条件下制成的柱微透镜的表面轮廓具有明显的差异，给出了描述柱微透镜制作过程中的几个重要工艺参量的拟合关系式．

氩离子束蚀刻加工的柱体微透镜阵列

理论研究表明，氩离子束蚀刻加工柱体非球面微透镜阵列，柱体球面微透镜阵列和微棱镜阵列具有巨大潜力。实验结果证明，硅（Si）基片上表面轮廓为球面和椭圆面柱体微透镜阵列，表面质量好，均匀一致性佳。给出各种基片材料例如ZrO2，InP，SiO2（石英玻璃）和Si以及相对高温固结光致抗蚀剂（BP212）掩模材料的Ar离子能量和Ar离子束蚀刻速率之间的关系曲线。可以认为，这种技术可用来加工大面积不同表面轮廓柱体微透镜阵列和微核镜阵列。