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旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机 被引量:6
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作者 王福贞 《真空》 CAS 北大核心 1997年第2期43-45,共3页
本文介绍了旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机的特点和所镀氮化钛膜的组织。
关键词 旋转磁控 柱状弧源 离子镀 氮化钛 镀膜机
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柱状弧源多弧离子镀膜机
2
作者 王福贞 《表面工程》 CSCD 1996年第1期48-49,9,共3页
文章介绍新型柱状阴极电弧源多弧离子镀膜机的结构特点和镀氮化钛涂层的效果。
关键词 离子镀 镀膜机 氮化钛涂层 柱状弧源
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真空镀膜技术的最新进展 被引量:13
3
作者 姜燮昌 《真空》 CAS 北大核心 1999年第5期1-7,共7页
本文介绍了旋转磁控溅射和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶CMag、孪生磁控溅射靶Tw inMag 和旋转磁控柱状弧源的特性及其应用。本文还对Low E膜和ITO膜的制备工艺和设备进行了分析研究。
关键词 真空镀膜 柱状弧源 旋转磁控溅射 离子镀
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