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紫外激光切割Si片的实验研究
被引量:
19
1
作者
楼祺洪
章琳
+2 位作者
叶震寰
董景星
魏运荣
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第4期250-251,254,共3页
报道了用 193nm准分子激光切割硅片的实验结果。采用柱透镜光学系统及“热劈裂法”获得小于 15 μm的切缝及小于 5
关键词
紫外激光
切割
实验
硅片
半导体
柱透镜光学
热劈裂法
下载PDF
职称材料
题名
紫外激光切割Si片的实验研究
被引量:
19
1
作者
楼祺洪
章琳
叶震寰
董景星
魏运荣
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第4期250-251,254,共3页
基金
八六三-416支持项目
文摘
报道了用 193nm准分子激光切割硅片的实验结果。采用柱透镜光学系统及“热劈裂法”获得小于 15 μm的切缝及小于 5
关键词
紫外激光
切割
实验
硅片
半导体
柱透镜光学
热劈裂法
Keywords
UV laser
cutting
Si wafer
分类号
TG485 [金属学及工艺—焊接]
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
紫外激光切割Si片的实验研究
楼祺洪
章琳
叶震寰
董景星
魏运荣
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2002
19
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