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柱面图形光学刻划的研究
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作者 付永启 赵兴国 赵晶丽 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期97-99,共3页
柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题,本文以这三个问题为中心详细讨论了在圆柱面上光刻图形的方法。
关键词 柱面图形 光学刻划 柱面涂胶 刻划间隙
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