用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计

均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件。采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性。基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透镜阵列,并通过优化设计,克服了微透镜之间的接缝在远场光场处产生的中心亮线。仿真分析表明,所设计的微透镜阵列的远场分布不均匀性达到0.85%。

用柱面镜阵列作大视场二维透射物彩虹全息

本文提出一种利用柱面镜列阵拍摄二维透射物的彩虹全息新方法。由于拍摄时无须使用成象透镜及狭缝,因而获得大视场的全息象。拍摄手续简便。文章对象的单色性、

一种X射线成像型平响应低通滤波技术

提出一种基于掠入射微柱面反射镜阵列的X射线成像型平响应低通滤波技术.根据X射线光学理论,介绍了基于微柱面反射镜阵列的平响应低通滤波原理,分析了元件透射谱的计算方法.基于电子束刻蚀技术在聚酰亚胺衬底上制作了金柱体直径200nm、深度1.3μm、占空比0.393的微柱面镜阵列样品,根据理论计算在2°掠射角时其截止能量为1250eV,响应不平整度为5.7%.利用转角精度优于0.1°的三维精密转角机构,在北京同步辐射装置的4B7B软X射线束线站标定样品在不同掠入射角下的透射率,得到初步标定结果.标定结果显示,在1keV以上的不同能点各曲线均有下降趋势,且角度越大下降能点越偏软,说明掠射角的增大对较高能的X射线具有明显抑制效果.由于电子束刻蚀的技术局限性,样品的深宽比、侧壁垂直度、侧壁粗糙度等参数并未达到理论要求,所以标定结果与理论计算值有一定差异.

一种光学内补偿技术及其稳定补偿关系研究

以光学内补偿技术为研究对象,分析了内补偿光学系统中平行光束与柱面镜阵列的相对位置对出射光束的影响,论述了光学内补偿系统纵横摇补偿机构之间的耦合关系。结果表明光学内补偿系统的纵横摇补偿之间相互解耦。在此基础上推导了摇摆台状态下内补偿系统出射光束的稳定补偿机理,为光束稳定控制提供理论依据。