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高介电常数的栅极电介质LaAlO_3薄膜的性能研究 被引量:16
1
作者 王东生 于涛 +3 位作者 游彪 夏奕东 胡安 刘治国 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期229-232,共4页
在室温下,采用射频磁控溅射法在Si衬底上制备了具有高介电常数的LaAlO3薄膜,这是一种新的栅极电介质材料.在高纯O2中经过15min650℃的高温退火后LaAlO3薄膜仍然不晶化,这种热稳定性有利于减小薄膜的漏电流.本工作研究了LaAlO3薄膜的介... 在室温下,采用射频磁控溅射法在Si衬底上制备了具有高介电常数的LaAlO3薄膜,这是一种新的栅极电介质材料.在高纯O2中经过15min650℃的高温退火后LaAlO3薄膜仍然不晶化,这种热稳定性有利于减小薄膜的漏电流.本工作研究了LaAlO3薄膜的介电性能,其电容等效氧化物厚度为2.33nm,在外加偏压±1V处的漏电流很低,分别为3.73mA/cm2(+1V处)和5.32×10-4mA/cm2(-1V处),两者相差四个数量级.此结果表明,Pt/LaAlO3/Si结构具有良好的单向导电性能. C-V曲线的滞后电压VH=0.09V,界面态密度的值约为8.35×1011cm-2.研究结果表明,在今后的半导体器件的甚大规模集成(ULSI)中,具有高介电常数的LaAlO3薄膜将会是一种极有希望的栅极电介质材料. 展开更多
关键词 栅极介质材料 介电常数 LaAlO3薄膜 铝酸镧 半导体集成电路
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高K栅介质研究进展 被引量:8
2
作者 赵毅 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期16-19,共4页
介绍了国内外对高K栅极介质的研究现状。分析了适合用于作为栅极介质的高介电常数材料的种类,用于制备高K薄膜的方法。
关键词 栅极介质 高介电常数材料 高K栅介质 介电层 场效应管 二氧化硅
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高介电常数栅介质材料研究动态 被引量:6
3
作者 周晓强 凌惠琴 +1 位作者 毛大立 李明 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期163-168,共6页
 随着微电子技术的飞速发展,半导体器件的特征尺寸按摩尔定律不断缩小。SiO2作为MOSFET的栅介质材料已不能满足技术发展的需求。为此,应用于下一代MOSFET的高介电常数栅介质材料已成为当今微电子材料的研究热点。文章介绍了高k材料抑...  随着微电子技术的飞速发展,半导体器件的特征尺寸按摩尔定律不断缩小。SiO2作为MOSFET的栅介质材料已不能满足技术发展的需求。为此,应用于下一代MOSFET的高介电常数栅介质材料已成为当今微电子材料的研究热点。文章介绍了高k材料抑制隧穿效应影响的原理及其应当满足的各项性能指标,并对其研究动态和存在的问题进行了阐述,指出了最有可能成为下一代MOSFET栅介质的几种高k材料。 展开更多
关键词 MOSFET 微电子材料 高介电常数 栅极介质 伪二元合金
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TiO_2薄膜的MOCVD法制备及其退火条件的研究 被引量:2
4
作者 王栋 王民 +3 位作者 许效红 侯云 王弘 韩辉 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2002年第6期476-478,共3页
用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)法在n-Si(100)单晶衬底上制备了TiO2薄膜;利用X-射线衍射技术研究了不同条件下退火的TiO2薄膜的结晶性;通过测量C-V曲线和BT实验分别研究了TiO2/Si系统的固定电荷密度和薄膜中的可动电荷密度。实验结果... 用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)法在n-Si(100)单晶衬底上制备了TiO2薄膜;利用X-射线衍射技术研究了不同条件下退火的TiO2薄膜的结晶性;通过测量C-V曲线和BT实验分别研究了TiO2/Si系统的固定电荷密度和薄膜中的可动电荷密度。实验结果表明,只有在一定的退火温度下薄膜才有较好的结晶性。在退火温度为850°C、退火时间为30min时,可得到完全为金红石相的TiO2薄膜,其固定电荷密度的数量级为1011/cm2,可动电荷密度在(3~4)×1011/cm2,电荷极性为正。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 MOCVD法 制备 退火条件 金属有机化合物气相淀积 X-射线衍射 BT实验 二氧化钛 栅极绝缘介质 MOS
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呼之欲出的新一代MOS栅极电介质材料 被引量:1
5
作者 陈刚 王迅 《物理》 CAS 2000年第7期388-392,共5页
传统的SiO2 栅极电介质材料无法克服MOS器件特征尺度缩小带来的量子隧穿效应的影响 .作为进一步提高微电子器件集成度的途径 ,利用新一代具有高介电常数的栅极电介质材料取代SiO2 的研究工作已经展开 .文中介绍了此类材料抑制隧穿效应... 传统的SiO2 栅极电介质材料无法克服MOS器件特征尺度缩小带来的量子隧穿效应的影响 .作为进一步提高微电子器件集成度的途径 ,利用新一代具有高介电常数的栅极电介质材料取代SiO2 的研究工作已经展开 .文中介绍了此类材料抑制隧穿效应影响的原理和其应当满足的各项性能指标 .并对目前几种主要的研究方案 ,如几种高介电常数金属氧化物、硅酸盐及其迭层结构的研究状况和优缺点给予了简要评述 . 展开更多
关键词 高介电常数材料 栅极介质 集成度 MOS器件
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金属氧化物与现代微电子学——过渡金属前体化合物及转化为材料的化学过程(英文) 被引量:1
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作者 Tabitha M.Cook Adam C.Lamb 薛子陵 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2017年第11期1947-1958,共12页
金属氧化物薄膜如HfO_2(被称为高k电介质)是现代微电子器件的关键组件,广泛用于计算机(平板电脑,笔记本电脑和台式机)、智能电话、智能电视、汽车和医疗设备中。具有大介电常数(k)的金属氧化物已经取代了介电常数小的SiO_2(k=3.9),从而... 金属氧化物薄膜如HfO_2(被称为高k电介质)是现代微电子器件的关键组件,广泛用于计算机(平板电脑,笔记本电脑和台式机)、智能电话、智能电视、汽车和医疗设备中。具有大介电常数(k)的金属氧化物已经取代了介电常数小的SiO_2(k=3.9),从而使得微电子元件进一步小型化。过渡金属化合物在化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)中被广泛用作前体,通过与O2、H_2O或O_3的反应生成金属氧化物薄膜。微电子金属氧化物膜是纳米材料最广泛应用的一个领域。本文概观该领域的最新进展,包括我们对d0过渡金属配合物与O_2反应的研究。 展开更多
关键词 金属氧化物 栅极介质材料 薄膜 微电子学 化学气相沉积 原子层沉积
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集成10亿晶体管的IC问世在即
7
作者 季超 《世界产品与技术》 2003年第5期14-14,16,共2页
当前,1亿晶体管的集成电路已经面市,如加拿大ATI科技公司的Radeon9700图像处理器,美国Rival Nvidia公司的NV30处理器都是超过1亿晶体管的集成电路。Intel公司也准备将Pentium处理器换代至Itanium处理器,同样集成近1亿晶体管。
关键词 集成电路 晶体管 集成度 栅极介质 硅衬底材料
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Low-power high-mobility organic single-crystal field-effect transistor 被引量:2
8
作者 Beibei Fu Lingjie Sun +4 位作者 Lei Liu Deyang Ji Xiaotao Zhang Fangxu Yang Wenping Hu 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第10期2779-2785,共7页
Evolving flexible electronics requires the development of high-mobility and low-power organic field-effect transistors(OFETs)that are crucial for emerging displays,sensors,and label technologies.Among diverse material... Evolving flexible electronics requires the development of high-mobility and low-power organic field-effect transistors(OFETs)that are crucial for emerging displays,sensors,and label technologies.Among diverse materials,polymer gate dielectrics and two-dimensional(2D)organic crystals have intrinsic flexibility and natural compatibility with each other for OFETs with high performance;however,their combination lacks non-impurity and non-damage construction strategies.In this study,we developed a desirable OFET system using damage-free transfer of 2D organic single crystal,dinaphtho[2,3-b:2',3'-f]thieno[3,2-b]thiophene on a unique polymer dielectric layer,poly(amic acid)(PAA).Benefiting from the unique PAA surface nanostructure and the long-range ordered characteristics of the 2D organic single crystal,the resulting OFETs show remarkable performance with high mobility and low operating voltage of 18.7 cm^(2) V^(−1) s^(−1) and−3 V,respectively.The result indicates that combining polymer gate dielectric with 2D organic single crystal using a high-quality method can produce flexible electronic devices with high performance. 展开更多
关键词 organic field-effect transistor polymer dielectrics 2D organic crystals HIGH-MOBILITY low power consumption
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Effects of gate dielectric thickness and semiconductor thickness on device performance of organic field-effect transistors based on pentacene
9
作者 YI Ran LOU ZhiDong +2 位作者 HU YuFeng CUI ShaoBo TENG Feng 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2014年第6期1142-1146,共5页
In this paper,the pentacene-based organic field-effect transistors(OFETs)with poly(methyl methacrylate)(PMMA)as gate dielectrics were fabricated,and the effects of gate dielectric thickness and semiconductor thickness... In this paper,the pentacene-based organic field-effect transistors(OFETs)with poly(methyl methacrylate)(PMMA)as gate dielectrics were fabricated,and the effects of gate dielectric thickness and semiconductor thickness on the device performance were investigated.The optimal PMMA thickness is in the range of 350–400 nm to sustain a considerable current density and stable performance.The device performance depends on the thicknesses of the active layer non-monotonically,which can be explained by the morphology of the pentacene film and the position of the conducting channel in the active layer.The device with a pentacene thickness of 50 nm shows the best performance,which has a maximum hole mobility of 1.12 cm2/V·s.In addition,the introduction of a thin layer of tris-(8-hydroxyquinolinato)aluminum(Alq3)to the OFETs as a light-emitting material greatly decreases the device performance. 展开更多
关键词 pentacene-based organic field-effect transistors(OFETs) thicknesses of poly(methy lmethacrylate)(PMMA) and pentacene device performance
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Extraction efficiency enhancement of LEDs using 2-D photonic crystal 被引量:2
10
作者 李志全 王亚男 +2 位作者 李文超 曹平 张景茹 《Optoelectronics Letters》 EI 2012年第3期186-189,共4页
Using photonic crystals (PCs), the extraction efficiency of the light-emitting diodes (LEDs) can be greatly enhanced by the effects of photonic band gap (PBG) and grating diffraction. The two theoretical methods are a... Using photonic crystals (PCs), the extraction efficiency of the light-emitting diodes (LEDs) can be greatly enhanced by the effects of photonic band gap (PBG) and grating diffraction. The two theoretical methods are also discussed. Meanwhile, we demonstrate that LEDs can achieve high extraction efficiency by employing photonic crystal as diffraction grating. PCs with square lattice of cylindrical unit cells are fabricated in GaN layer of GaN-based blue LED. We present a theoretical discussion on the extraction efficiency of PC-LED, which relies on the effective medium theory and transmission matrix method to investigate the effect of lattice constant. The results show that the extraction efficiency of the high performance LEDs can achieve 61.8% when the lattice constant is 270 nm. 展开更多
关键词 DIFFRACTION Diffraction gratings EFFICIENCY EXTRACTION Gallium nitride Lattice constants Microcomputers Photonic band gap
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