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日光温室夏季番茄土垄内嵌式基质栽培根区及株间温度特征 被引量:2
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作者 李宗耕 杨其长 +2 位作者 查凌雁 张玉彬 刘文科 《山东农业科学》 2018年第12期41-44,共4页
夏季在日光温室中采用土垄内嵌式基质栽培方法种植番茄,通过温度传感器探究栽培垄根区和株间不同高度的温度变化规律。结果表明:根区温度稳定性强,波动范围较地上部小,白天远低于地上温度,而夜间则高于地上温度。一天中,不同高度的株间... 夏季在日光温室中采用土垄内嵌式基质栽培方法种植番茄,通过温度传感器探究栽培垄根区和株间不同高度的温度变化规律。结果表明:根区温度稳定性强,波动范围较地上部小,白天远低于地上温度,而夜间则高于地上温度。一天中,不同高度的株间温度仅在正午时段略有差别,以高1. 0 m处温度最高,最高温平均值为40. 7℃。根区温度随深度增加稳定性变强,波动范围变小,白天根区深5. 0 cm处的温度较深10. 0cm处的高,夜间则相反;南北方向上,根区深5. 0 cm处的温度从南到北呈现出明显的降低趋势,而10. 0 cm处以南部温度最高,中部和北部温度没有明显差异,即随着深度的增加,根区温度在南北方向上的差异逐渐减小。总的来看,地上部温度波动范围大,但不同高度的株间温度没有明显差异;根区温度波动范围小,稳定性强,但在不同深度和南北方向上存在差别。 展开更多
关键词 日光温室 番茄 土垄内嵌式基质栽培 根区温度 株间温度
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