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基于光纤的量子椭圆偏振光测量装置
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作者 邹雪峰 李凤娇 +1 位作者 崔亮 李小英 《量子光学学报》 北大核心 2019年第1期15-21,共7页
利用基于光纤的便携式偏振纠缠光子对源作为检测光源,搭建了使用单模光纤进行耦合的量子椭圆偏振光测量装置。实验测量了氧化层厚度为100nm的氧化膜硅片样品,通过将偏振纠缠光子对中的一路经由氧化膜硅片样品进行反射,然后借助双光子符... 利用基于光纤的便携式偏振纠缠光子对源作为检测光源,搭建了使用单模光纤进行耦合的量子椭圆偏振光测量装置。实验测量了氧化层厚度为100nm的氧化膜硅片样品,通过将偏振纠缠光子对中的一路经由氧化膜硅片样品进行反射,然后借助双光子符合计数方法测量反射后的量子态,得到了样品的椭圆偏振参数。当入射到样品上的光子波长为1 558.17nm,入射角为30°时,通过三次实验所得的椭圆偏振参数(ψ,Δ)的平均值分别为40.23°和173.10°,标准差分别为0.046°和0.403°,测量结果的相对标准偏差小于1%,同时该结果与仿真模拟值相符。 展开更多
关键词 椭圆偏振光测量 偏振纠缠光子 光纤 自发四波混频
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分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试 被引量:5
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作者 延凤平 郑凯 +8 位作者 王琳 李一凡 龚桃荣 简水生 尾形健一 小池一步 佐佐诚彦 井上正崇 矢野满明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期4127-4131,共5页
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系... 利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据. 展开更多
关键词 ZNMGO薄膜 偏振光椭圆测量 折射率 分子束外延(MBE)
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