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基于光纤的量子椭圆偏振光测量装置
1
作者
邹雪峰
李凤娇
+1 位作者
崔亮
李小英
《量子光学学报》
北大核心
2019年第1期15-21,共7页
利用基于光纤的便携式偏振纠缠光子对源作为检测光源,搭建了使用单模光纤进行耦合的量子椭圆偏振光测量装置。实验测量了氧化层厚度为100nm的氧化膜硅片样品,通过将偏振纠缠光子对中的一路经由氧化膜硅片样品进行反射,然后借助双光子符...
利用基于光纤的便携式偏振纠缠光子对源作为检测光源,搭建了使用单模光纤进行耦合的量子椭圆偏振光测量装置。实验测量了氧化层厚度为100nm的氧化膜硅片样品,通过将偏振纠缠光子对中的一路经由氧化膜硅片样品进行反射,然后借助双光子符合计数方法测量反射后的量子态,得到了样品的椭圆偏振参数。当入射到样品上的光子波长为1 558.17nm,入射角为30°时,通过三次实验所得的椭圆偏振参数(ψ,Δ)的平均值分别为40.23°和173.10°,标准差分别为0.046°和0.403°,测量结果的相对标准偏差小于1%,同时该结果与仿真模拟值相符。
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关键词
椭圆偏振光测量
偏振纠缠光子
光纤
自发四波混频
原文传递
分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试
被引量:
5
2
作者
延凤平
郑凯
+8 位作者
王琳
李一凡
龚桃荣
简水生
尾形健一
小池一步
佐佐诚彦
井上正崇
矢野满明
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期4127-4131,共5页
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系...
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.
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关键词
ZNMGO薄膜
偏振光
椭圆
率
测量
仪
折射率
分子束外延(MBE)
原文传递
题名
基于光纤的量子椭圆偏振光测量装置
1
作者
邹雪峰
李凤娇
崔亮
李小英
机构
天津大学精密仪器与光电子工程学院光电信息技术教育部重点实验室
出处
《量子光学学报》
北大核心
2019年第1期15-21,共7页
基金
国家自然科学基金(61675148)
文摘
利用基于光纤的便携式偏振纠缠光子对源作为检测光源,搭建了使用单模光纤进行耦合的量子椭圆偏振光测量装置。实验测量了氧化层厚度为100nm的氧化膜硅片样品,通过将偏振纠缠光子对中的一路经由氧化膜硅片样品进行反射,然后借助双光子符合计数方法测量反射后的量子态,得到了样品的椭圆偏振参数。当入射到样品上的光子波长为1 558.17nm,入射角为30°时,通过三次实验所得的椭圆偏振参数(ψ,Δ)的平均值分别为40.23°和173.10°,标准差分别为0.046°和0.403°,测量结果的相对标准偏差小于1%,同时该结果与仿真模拟值相符。
关键词
椭圆偏振光测量
偏振纠缠光子
光纤
自发四波混频
Keywords
Ellipsometry
Polarization entanglement photons
Fiber
Spontaneous four-wave mixing
分类号
O436.3 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试
被引量:
5
2
作者
延凤平
郑凯
王琳
李一凡
龚桃荣
简水生
尾形健一
小池一步
佐佐诚彦
井上正崇
矢野满明
机构
北京交通大学光波技术研究所
Bio Venture Center
New Material Research Center
New Material Research Center
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期4127-4131,共5页
基金
国家自然科学基金重点项目(批准号:60337010)资助的课题.~~
文摘
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.
关键词
ZNMGO薄膜
偏振光
椭圆
率
测量
仪
折射率
分子束外延(MBE)
Keywords
ZnMgO film, ellipsometry, refractive index, molecular beam epitaxy (MBE)
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于光纤的量子椭圆偏振光测量装置
邹雪峰
李凤娇
崔亮
李小英
《量子光学学报》
北大核心
2019
0
原文传递
2
分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试
延凤平
郑凯
王琳
李一凡
龚桃荣
简水生
尾形健一
小池一步
佐佐诚彦
井上正崇
矢野满明
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
5
原文传递
已选择
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参考文献
引证文献
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