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偏斜椭圆激光驻波场作用下中性原子沉积纳米光栅结构特性分析
被引量:
8
1
作者
张文涛
朱保华
+1 位作者
黄静
熊显名
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第10期215-219,共5页
分析了椭圆激光驻波场的偏斜对中性原子运动过程和沉积过程的影响,对不同偏斜角度椭圆激光驻波场作用下中性铬原子沉积纳米光栅结构的特性进行了仿真研究,由仿真结果可以看出,随着偏斜椭圆形激光束偏斜角的增加,对应于不同y平面,激光驻...
分析了椭圆激光驻波场的偏斜对中性原子运动过程和沉积过程的影响,对不同偏斜角度椭圆激光驻波场作用下中性铬原子沉积纳米光栅结构的特性进行了仿真研究,由仿真结果可以看出,随着偏斜椭圆形激光束偏斜角的增加,对应于不同y平面,激光驻波场汇聚中性原子所形成纳米光栅条纹的对比度不断减小、半高宽不断增大.当椭圆长短轴之比为2:1条件下,椭圆激光驻波场的偏斜角为0°时,纳米光栅的条纹半高宽为3.2nm,条纹对比度为36:1,而当偏斜角为15°时,激光驻波场中心位置处的沉积条纹的半高宽为6.5nm,条纹对比度为24:1,而当椭圆激光驻波场偏斜角度达到30°时,沉积条纹的单峰结构将会产生分裂,形成了双峰结构,且随着偏斜角的增加,沉积条纹的分裂越严重,纳米光栅的沉积质量越差.对于其他长短轴比例条件下的激光场亦可根据比例关系获得相应的纳米光栅沉积特性.
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关键词
原子光刻
偏斜
椭圆激光驻波场
纳米光栅
原文传递
椭圆型激光驻波场作用下Cr原子的汇聚特性研究
被引量:
2
2
作者
张文涛
朱保华
熊显名
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第12期8199-8204,共6页
利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米级条纹沉积技术是一种新型的研制纳米结构长度标准传递的方法.分析了Cr原子在椭圆型激光驻波场作用下的沉积特性,分别对不同椭圆激光驻波场功率下Cr原子的沉积条纹及不同y平面上沉积条纹特性...
利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米级条纹沉积技术是一种新型的研制纳米结构长度标准传递的方法.分析了Cr原子在椭圆型激光驻波场作用下的沉积特性,分别对不同椭圆激光驻波场功率下Cr原子的沉积条纹及不同y平面上沉积条纹特性进行了模拟和分析.同时针对椭圆激光驻波场作用下Cr原子发散角对沉积条纹特性的影响进行了模拟计算,比较了不同发散角条件下沉积条纹的对比度和半高宽.
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关键词
原子光刻
椭圆激光驻波场
Cr原子
原文传递
题名
偏斜椭圆激光驻波场作用下中性原子沉积纳米光栅结构特性分析
被引量:
8
1
作者
张文涛
朱保华
黄静
熊显名
机构
桂林电子科技大学电子工程与自动化学院
贵州民族学院物理电子学院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第10期215-219,共5页
基金
国家自然科学基金(批准号:11064002
11061011)资助的课题~~
文摘
分析了椭圆激光驻波场的偏斜对中性原子运动过程和沉积过程的影响,对不同偏斜角度椭圆激光驻波场作用下中性铬原子沉积纳米光栅结构的特性进行了仿真研究,由仿真结果可以看出,随着偏斜椭圆形激光束偏斜角的增加,对应于不同y平面,激光驻波场汇聚中性原子所形成纳米光栅条纹的对比度不断减小、半高宽不断增大.当椭圆长短轴之比为2:1条件下,椭圆激光驻波场的偏斜角为0°时,纳米光栅的条纹半高宽为3.2nm,条纹对比度为36:1,而当偏斜角为15°时,激光驻波场中心位置处的沉积条纹的半高宽为6.5nm,条纹对比度为24:1,而当椭圆激光驻波场偏斜角度达到30°时,沉积条纹的单峰结构将会产生分裂,形成了双峰结构,且随着偏斜角的增加,沉积条纹的分裂越严重,纳米光栅的沉积质量越差.对于其他长短轴比例条件下的激光场亦可根据比例关系获得相应的纳米光栅沉积特性.
关键词
原子光刻
偏斜
椭圆激光驻波场
纳米光栅
Keywords
atom lithography
deflective elliptical laser standing wave
nanometer grating
分类号
O562.3 [理学—原子与分子物理]
原文传递
题名
椭圆型激光驻波场作用下Cr原子的汇聚特性研究
被引量:
2
2
作者
张文涛
朱保华
熊显名
机构
桂林电子科技大学电子工程学院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第12期8199-8204,共6页
基金
广西壮族自治区教育厅科学研究基金(批准号:200807MS006)资助的课题~~
文摘
利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米级条纹沉积技术是一种新型的研制纳米结构长度标准传递的方法.分析了Cr原子在椭圆型激光驻波场作用下的沉积特性,分别对不同椭圆激光驻波场功率下Cr原子的沉积条纹及不同y平面上沉积条纹特性进行了模拟和分析.同时针对椭圆激光驻波场作用下Cr原子发散角对沉积条纹特性的影响进行了模拟计算,比较了不同发散角条件下沉积条纹的对比度和半高宽.
关键词
原子光刻
椭圆激光驻波场
Cr原子
Keywords
atom lithography elliptical standing wave chromium atom
分类号
O562 [理学—原子与分子物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
偏斜椭圆激光驻波场作用下中性原子沉积纳米光栅结构特性分析
张文涛
朱保华
黄静
熊显名
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
8
原文传递
2
椭圆型激光驻波场作用下Cr原子的汇聚特性研究
张文涛
朱保华
熊显名
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
2
原文传递
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