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γ-TiAl与氧化锆陶瓷模壳的界面反应 被引量:2
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作者 贾清 崔玉友 杨锐 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第z1期351-353,共3页
采用扫描电镜、电子探针、微区分析、面分布等方法研究了CaO稳定的ZrO2陶瓷型壳与TiAl基合金熔体的界面反应.反应层厚度在80-280μm之间,该区域晶界粗大,电子探针面分析证明是明显的富Zr区.延长金属TiAl与模壳的反应时间,以获得较大的... 采用扫描电镜、电子探针、微区分析、面分布等方法研究了CaO稳定的ZrO2陶瓷型壳与TiAl基合金熔体的界面反应.反应层厚度在80-280μm之间,该区域晶界粗大,电子探针面分析证明是明显的富Zr区.延长金属TiAl与模壳的反应时间,以获得较大的反应界面,进一步研究TiAl熔融液与模壳之间的反应机理. 展开更多
关键词 精密铸造 γ-TiAl 氧化锆 陶瓷 界面反应
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K4125合金涡轮叶片榫齿荧光显示缺陷研究
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作者 刘丽玉 高翔宇 +1 位作者 孔焕平 刘昌奎 《失效分析与预防》 2018年第6期397-402,共6页
通过对试车后榫齿出现荧光显示的一级工作叶片进行宏、微观分析,对缺陷打开的"断口"进行形貌观察、背散射和能谱分析,检查叶片组织,分析榫齿荧光显示缺陷性质和产生的原因。结果表明:K4125合金涡轮叶片在试车后榫齿出现荧光显... 通过对试车后榫齿出现荧光显示的一级工作叶片进行宏、微观分析,对缺陷打开的"断口"进行形貌观察、背散射和能谱分析,检查叶片组织,分析榫齿荧光显示缺陷性质和产生的原因。结果表明:K4125合金涡轮叶片在试车后榫齿出现荧光显示,是由于榫齿处存在富Hf氧化物夹杂,工作后沿界面张开,形成开口性裂纹;富Hf氧化物夹杂是由于合金在熔炼过程中发生了模壳反应,产生了片状HfO_2夹杂。通过控制合金中Hf的含量、熔炼过程中的真空度,加强熔炼坩埚内残留熔渣清理和加强搅拌、扒渣等手段,可有效预防此类夹杂的产生。 展开更多
关键词 K4125合金 荧光显示 富Hf氧化物夹杂 模壳反应
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Growth Kinetics and Chitosan Flocculation of Spirufina platensis Algae
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作者 Hamed El-Mashad 《Journal of Environmental Science and Engineering(A)》 2014年第3期150-162,共13页
S. platensis (Spirulinaplatensis) algae were grown in batch reactors at 30 ± 1℃ with a continuous illumination of 50 ±2 μmol·m^-2·s^-1 using different growth media and air flow rates. A modifie... S. platensis (Spirulinaplatensis) algae were grown in batch reactors at 30 ± 1℃ with a continuous illumination of 50 ±2 μmol·m^-2·s^-1 using different growth media and air flow rates. A modified Gompertz kinetic model was applied to estimate the maximum concentration of algae and the growth rate at different conditions. A peak cell productivity of 21.91 mg·L^-1·day^-1 (dry biomass) was determined using commercial nutrient media (F/2, part A and part B) and modified Zarrouk medium at an air flow rate of 3 L·L^-1·min^-1. Using the commercial media at high concentrations yielded high biomass concentrations. The results of the modified Gompertz kinetic model indicated that the highest growth rate was 0.118 g·L^-1·day^-1. This growth rate was determined for S. platensis cultivated using 0.399 mL·L^-1 of the commercial media. Response surface methodology was applied to optimize the parameters (temperature, pH, and chitosan dose) that affect the efficiency of the flocculation of S. platensis. An optimum flocculation of 98.7% was determined at a pH, temperature, and chitosan dose of 5.5, 30℃, and 75 mL·L^-1, respectively. 展开更多
关键词 S. platensis algae growth kinetics FLOCCULATION CHITOSAN RSM (response surface methodology).
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