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基于有限元法的激光横向刻蚀路径对片阻阻值影响的研究
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作者 王志娟 郑玉彤 +1 位作者 闫晓东 汤建华 《电子器件》 CAS 2008年第3期791-794,799,共5页
应用激光对片阻阻值进行修调时,垂直于电流方向的横向刻蚀对片阻的阻值影响较大,合理设计横向刻蚀的起刻位置和刻蚀长度能够以较低成本提高激光调阻精度及调阻效率。应用有限元法可得激光横向刻蚀长度和横向起刻位置对片阻阻值影响的定... 应用激光对片阻阻值进行修调时,垂直于电流方向的横向刻蚀对片阻的阻值影响较大,合理设计横向刻蚀的起刻位置和刻蚀长度能够以较低成本提高激光调阻精度及调阻效率。应用有限元法可得激光横向刻蚀长度和横向起刻位置对片阻阻值影响的定性、定量结论。经实验验证:应用有限元法得到的横向刻蚀路径对阻值影响的定性结论与实验结论一致、定量结论的计算偏差不大于2%,能够为提高调阻精度和调阻效率提供控制依据。 展开更多
关键词 激光调阻 调阻精度 横向蚀长度 横向起刻位置 有限元法
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