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SiGeC异质结功率二极管通态特性研究
1
作者
马丽
高勇
+1 位作者
刘静
王彩琳
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第3期455-459,共5页
研究了一种大功率低功耗p+(SiGeC)-n--n+异质结二极管结构,分析了Ge、C含量对器件正向通态特性的影响。结果表明:与常规的Si p-i-n二极管相比,在正向电流密度不超过1000 A/cm2情况下,p+(SiGeC)-n--n+二极管的正向压降有明显的降低。当...
研究了一种大功率低功耗p+(SiGeC)-n--n+异质结二极管结构,分析了Ge、C含量对器件正向通态特性的影响。结果表明:与常规的Si p-i-n二极管相比,在正向电流密度不超过1000 A/cm2情况下,p+(SiGeC)-n--n+二极管的正向压降有明显的降低。当电流密度为10 A/cm2时,Si p-i-n二极管的压降为0.655 V,而SiGeC异质结二极管的压降只有0.525 V,大大降低了器件的通态功耗。在相同正向电流密度的条件下,SiGeC异质结二极管在n-区存储的载流子比Si二极管的减少了1个数量级以上,这导致前者的关断时间远小于后者。
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关键词
硅锗碳/硅异质结功率二极管
正向通态特性
大功率
低功耗
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职称材料
题名
SiGeC异质结功率二极管通态特性研究
1
作者
马丽
高勇
刘静
王彩琳
机构
西安理工大学应用物理系
西安理工大学电子工程系
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第3期455-459,共5页
基金
国家自然科学基金(50477012)
高等学校博士学科点专项科研基金(20050700006)
陕西省教育厅专项科研计划资助(05JK268)
文摘
研究了一种大功率低功耗p+(SiGeC)-n--n+异质结二极管结构,分析了Ge、C含量对器件正向通态特性的影响。结果表明:与常规的Si p-i-n二极管相比,在正向电流密度不超过1000 A/cm2情况下,p+(SiGeC)-n--n+二极管的正向压降有明显的降低。当电流密度为10 A/cm2时,Si p-i-n二极管的压降为0.655 V,而SiGeC异质结二极管的压降只有0.525 V,大大降低了器件的通态功耗。在相同正向电流密度的条件下,SiGeC异质结二极管在n-区存储的载流子比Si二极管的减少了1个数量级以上,这导致前者的关断时间远小于后者。
关键词
硅锗碳/硅异质结功率二极管
正向通态特性
大功率
低功耗
Keywords
SiGeC/Si heterojunctlon power diodes
forward conduction characteristics
high-power
low-loss
分类号
TN313.4 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SiGeC异质结功率二极管通态特性研究
马丽
高勇
刘静
王彩琳
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
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职称材料
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