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题名纳米尺度自旋转移矩器件的制备工艺
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作者
任敏
陈培毅
邓宁
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机构
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
清华大学微电子学研究所
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出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011年第11期685-688,701,共5页
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基金
中央高校基本科研业务费资助项目(ZYGX2010J038)
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文摘
提出一种改进的自旋转移矩器件的制备工艺:在电子束曝光形成纳米级图形之后,依次采用离子束刻蚀、带胶绝缘层淀积再正胶剥离的图形转移方法,成功制备了纳米柱状赝自旋阀结构磁性多层膜CoFe/Cu/CoFe/Ta,器件的横向尺寸为140nm×70nm。对该结构进行了电磁学性质的测试:在变化范围为-500~+500Oe(1A/m=4π×10-3 Oe)的外加磁场下,观测到巨磁阻效应;在零外加磁场下,施加垂直于膜平面的电流时,观测到电流诱导的磁化翻转效应,其临界电流密度为108 A/cm2量级。该方法具有工艺步骤少、易于实现的特点,在自旋转移矩器件等纳米级器件的制备中具有广泛的应用前景。
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关键词
纳米柱
磁性多层膜
电子束曝光
离子束刻蚀
正胶剥离
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Keywords
nanopillar
magnetic multilayer film
electron beam lithography
ion beam etching
positive photoresist lift-off
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分类号
TB383
[一般工业技术—材料科学与工程]
TN305
[电子电信—物理电子学]
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