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一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究
被引量:
6
1
作者
陈明
李元昌
+2 位作者
洪啸吟
焦晓明
程爱萍
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第9期1485-1488,共4页
研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂 ,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物 ,而且可以作为阻溶剂 .用碘盐作为光敏产酸物 ,光解产生的酸可以在中...
研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂 ,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物 ,而且可以作为阻溶剂 .用碘盐作为光敏产酸物 ,光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与 HMMM的交联反应 ;用氢氧化钠 -乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形 ;采用碘盐作为阻溶剂 ,可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中 ,用稀的氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形 .通过优化后的光刻工艺条件 ,采用不同的显影液和光刻工艺流程 ,实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转 ,并分别得到负性和正性光刻图形 .
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关键词
阻溶剂
光致抗蚀剂
化学增幅抗蚀剂
正负性反转
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职称材料
题名
一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究
被引量:
6
1
作者
陈明
李元昌
洪啸吟
焦晓明
程爱萍
机构
清华大学化学系
北京化学试剂所
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第9期1485-1488,共4页
基金
国家自然科学基金! (批准号 :59633110
597730 0 7)资助
文摘
研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂 ,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物 ,而且可以作为阻溶剂 .用碘盐作为光敏产酸物 ,光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与 HMMM的交联反应 ;用氢氧化钠 -乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形 ;采用碘盐作为阻溶剂 ,可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中 ,用稀的氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形 .通过优化后的光刻工艺条件 ,采用不同的显影液和光刻工艺流程 ,实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转 ,并分别得到负性和正性光刻图形 .
关键词
阻溶剂
光致抗蚀剂
化学增幅抗蚀剂
正负性反转
Keywords
Chemical amplified
Photosensitive acid generator
Dissolution inhibitor
Negative photoresist
Positive photoresist
分类号
TG174.42 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究
陈明
李元昌
洪啸吟
焦晓明
程爱萍
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
6
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职称材料
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参考文献
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