基于遗传算法的步进式扫描光刻机路径规划

根据步进式扫描光刻机硅片曝光过程的特点,建立了光刻机路径规划问题的数学模型。采用遗传算法对光刻机路径规划模型进行了合理的规划。规划结果表明,规划后的扫描路径能有效地提高光刻机的生产效率。

步进式旋转光刻制备柱面微结构光栅模具

相对于常规光栅制造方法 (如机械刻划和光学曝光等工艺)而言,连续辊压印技术更易实现低成本、连续和高效的大面积制造。高精度栅结构辊压印圆柱辊模具的制备工艺技术是连续辊压印技术实现高精度光栅复制的关键技术。针对这一问题提出了一种步进式旋转光刻工艺路线,将小区域的微结构光栅掩模通过步进式拼接曝光方式实现模具表面整周完整光栅的曝光。区别于传统平面曝光过程,筒形模具曲面曝光采用步进式旋转光刻工艺,其关键技术是:搭建高步进精度的旋转曝光工艺实验平台、解决筒形模具外径及光栅周期匹配问题和优化接近式拼接曝光工艺中的曝光间隙。通过理论分析和实验验证,得出了优化的步进旋转角度、筒形模具外径、光栅周期和接近式曝光间隙的条件,通过此工艺完成了柱面模具表面周期为20μm级的光栅结构的制备,为采用辊压印技术实现低成本、连续和高效大面积光栅制造创造了有利条件。

基于人机工程学的步进式投影光刻机外观设计思考

以人机工程学为基础,对步进式投影光刻机外观进行分析思考。从产品使用者的角度出发,综合运用人机工程学、工效学、设计心理学等方面知识,并结合光刻机具体的使用方法和工作环境,设计出更人性化、更具亲和力且融合功能性、实用性、量产性和形式美于一体的产品,提出了光刻机外观设计的的基本架构。通过产品外观设计,使得操作者对其信任感得到提升,保持愉悦的工作情绪,并且提升企业的品牌形象。

光刻机镜头漏光对光刻工艺的影响

通过GaAs单片微波集成电路(MMIC)光刻工艺,试验得到不同掩模版透光区占空比下光刻机镜头的漏光率,分析了漏光率对曝光能量宽裕度以及光刻胶形状的影响。通过试验测量得出,掩模版透光区占空比的增加会导致曝光镜头的漏光率升高,进一步使得光刻工艺的能量宽裕度变小。同时,过高的漏光率会造成显影后图形的光刻胶损失,使光刻胶图形的对比度变差,从而严重影响GaAs MMIC光刻工艺的图形质量,造成器件性能退化,降低产品良率。

用于层间耦合的绝热光学倒锥工艺研究

针对光学倒锥窄尖的制备工艺困难的问题,通过特殊设计掩膜版,利用步进式光刻机,经过一次步进,对光刻胶进行两次连续的图案化处理,突破紫外光刻机的分辨率极限,制备出尖端接近50 nm的倒锥结构图案.再对光刻胶进行回流处理,解决其分层的问题,保证了结构侧壁的光滑度及尖端的完整性.在深硅刻蚀工艺中,通过对刻蚀中各气体组分进行调整,改善了锥形结构表面形貌,使结构的均匀性和完整性得到提升.最终得到了适用于层间耦合的尖端接近50 nm的光学倒锥.

高精密运动平台的重复控制

为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机工作台宏动平台的控制问题,建立了步进扫描光刻机模拟减振试验平台宏动定位系统工作台伺服系统的数学模型,并根据该系统重复运动的特点,提出一种基于重复控制补偿的PID控制方式。运用MATLAB软件进行仿真试验,仿真结果表明与普通PID控制相比,基于重复控制补偿的PID控制器可以有效地减小跟踪误差,因而可以使系统有更好的控制效果。

基于数字微镜器件的无掩模数字光刻技术研究进展

无掩模光刻技术具有无需物理掩模、成本低、适合大批量生产的优点,在微结构制作中得到了广泛应用。基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字光刻技术具有分辨率高、灵活性好、加工精度高等优势,成为近年来数字光刻领域的研究热点。综述了DMD数字光刻技术的研究进展,包括基于DMD的扫描光刻技术、步进式光刻技术以及灰阶光刻技术,介绍了该方法在集成电路、微光学、三维打印等领域的应用,并总结了目前DMD光刻技术存在的问题及其未来发展趋势。