滚压印圆柱母光栅的微刻划制造

精密长光栅作为高档数控机床中的核心部件,其制造能力和精度直接决定高精密机床的制造水平.本文对纳米滚压印技术制造长光栅中的核心部件——圆柱母光栅的制造开展研究,建立了高精度的母光栅刻划制造平台,保证了母光栅制造的精度要求;分析了微尺度毛刺的形成机理和抑制方法,对母光栅材料选择及微尺度刻划工艺参数进行了优化,实现了直径110 mm,周期分别为20μm、10μm和4μm整圈圆柱母光栅的高精度微刻划制造.母光栅刻划总条数为数万条,4μm周期母光栅连续刻划时间超过62 h,最终实现母光栅的首尾拼接误差控制小于300 nm.另外,针对滚压印加工中的填充问题,利用聚焦离子束(FIB)技术制备了V形、梯形等形状金刚石刀具,获得了良好的光栅压印结果.

绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计

简述了绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计方案。针对曝光光源均匀性、图案畸变、精确放大倍率等难点问题,设计了刻划装置的专业装调方案。同时利用刻划装置的物理样机进行曝光加工,得到了满足设计要求的母光栅码道图案。