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毛细管共面介质阻挡放电等离子体特性
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作者 王睿智 彭邦发 +2 位作者 姜楠 李杰 吴彦 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第10期4445-4457,共13页
共面介质阻挡放电(coplanar dielectric barrier discharge,CDBD)因高压电极和接地电极掩埋在绝缘介质中而具有较长的使用寿命和广泛的应用前景。然而,传统CDBD起始电压高、制作较为复杂,这会限制其应用的进一步发展。因此提出了一种新... 共面介质阻挡放电(coplanar dielectric barrier discharge,CDBD)因高压电极和接地电极掩埋在绝缘介质中而具有较长的使用寿命和广泛的应用前景。然而,传统CDBD起始电压高、制作较为复杂,这会限制其应用的进一步发展。因此提出了一种新型的毛细管CDBD结构,即用填充铜粉的毛细管作为高/低压电极,并利用两电极间的紧密接触缩短放电气隙以降低起始放电电压。该研究从流光发展过程、光学特性、电学特性以及活性粒子生成角度对毛细管CDBD进行了系统性的研究,并探究了脉冲电压幅值、上升时间、下降时间、峰值平顶宽度、电极直径以及介质的相对介电常数对等离子体特性的影响。结果表明,毛细管CDBD在单次脉冲作用下存在一次放电和二次放电,分别对应电流极性为正和为负的部分。在脉冲上升沿阶段,流光从相邻高/低压毛细管间的“V型”区域底部产生,然后主要沿着高压电极表面爬升并达到最高点。而在脉冲下降沿阶段,流光则主要沿着接地电极表面发展。高的脉冲电压、短的脉冲上升时间和下降时间有利于放电的增强和活性粒子的生成。同时脉冲上升时间的增加还会使得放电均匀性变差,而脉冲峰值平顶宽度的影响则较为有限。相对介电常数的增加能够增强放电强度和降低起始放电电压,而电极直径的增加虽能增加放电面积,但也会使得放电强度变差。 展开更多
关键词 毛细管共面介质阻挡放电 流光演化 脉冲参数 电极参数 等离子体特性
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共面介质阻挡放电等离子体平板光源设计与研究 被引量:2
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作者 王坤 王世庆 +1 位作者 李建 陈伦江 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期1119-1123,共5页
采用阳极氧化铝作为介质层,设计制作了共面介质阻挡放电等离子体平板光源,研究了高温烘焙、电源频率和气体压强等对光源着火电压和发光效率的影响。结果表明,高温烘焙电极装置和高脉冲电源频率可以使共面介质阻挡放电光源放电更稳定,放... 采用阳极氧化铝作为介质层,设计制作了共面介质阻挡放电等离子体平板光源,研究了高温烘焙、电源频率和气体压强等对光源着火电压和发光效率的影响。结果表明,高温烘焙电极装置和高脉冲电源频率可以使共面介质阻挡放电光源放电更稳定,放电着火电压更低;当电极宽度为0.5 mm、间距为4.5 mm、介质层厚度约为20μm、气体压强为20 Torr时,共面介质阻挡放电等离子体光源的放电稳定,亮度为7200 cd/m^(2),白光发光效率为4.92 lm/W。 展开更多
关键词 介质阻挡放电 共面介质阻挡放电 等离子体平板光源 阳极氧化铝
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共面型介质阻挡放电的击穿特性 被引量:2
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作者 欧阳吉庭 曹菁 何锋 《北京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期4-7,共4页
利用拉普拉斯方程求出共面型介质阻挡放电单元电势分布的解析解,结合汤生放电理论,研究了共面 型放电单元的结构参数对其击穿特性的影响. 结果表明,介质表面的二次电子发射系数、沿面电极间隙、电极 长度、介质层等因素对共面型介质阻... 利用拉普拉斯方程求出共面型介质阻挡放电单元电势分布的解析解,结合汤生放电理论,研究了共面 型放电单元的结构参数对其击穿特性的影响. 结果表明,介质表面的二次电子发射系数、沿面电极间隙、电极 长度、介质层等因素对共面型介质阻挡放电的击穿电压和击穿路径的位置都有一定影响.合理选择共面型介质 阻挡放电的结构参数,可以获得较低的击穿电压和所需的放电模式. 展开更多
关键词 共面介质阻挡放电 拉普拉斯方程 帕邢定律 击穿特性
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常压共面介质阻挡放电对聚乙烯隔膜表面改性研究 被引量:4
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作者 袁娜娜 马雪飞 +3 位作者 李妍 丁可 王超梁 张菁 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期89-94,共6页
共面介质阻挡放电是工业上非常有发展前景的材料表面处理技术,采用常压CDBD在六甲基二硅氧烷(HMDSO)/O_(2)/Ar混合气氛中产生低温等离子体,动态连续对聚乙烯(PE)隔膜进行表面改性,通过扫描电镜、衰减全反射傅里叶红外变换光谱、X射线光... 共面介质阻挡放电是工业上非常有发展前景的材料表面处理技术,采用常压CDBD在六甲基二硅氧烷(HMDSO)/O_(2)/Ar混合气氛中产生低温等离子体,动态连续对聚乙烯(PE)隔膜进行表面改性,通过扫描电镜、衰减全反射傅里叶红外变换光谱、X射线光电子能谱、水接触角和热收缩率测量分析,研究了常压等离子体处理前后PE隔膜的表面结构和性能的变化。结果表明,在较低的放电功率和短时间的等离子体处理下,PE隔膜表面沉积了SiO_(x)C_(y)H_(z)纳米颗粒薄膜,纳米颗粒沿着纤维呈絮状沉积,并不堵塞隔膜孔隙,同时引入Si(CH_(3))_(x)、Si-OH、COOH和C-OH等基团,极大地提升了PE隔膜表面润湿性和耐热性能,隔膜的热收缩率最低为0.5%,水接触角为24.4°。 展开更多
关键词 共面介质阻挡放电 低温等离子体 聚乙烯隔膜 润湿性 耐热收缩性
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不同电源激励下共面介质阻挡放电特性实验 被引量:23
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作者 史曜炜 周若瑜 +2 位作者 崔行磊 汪立峰 方志 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2018年第22期5371-5380,共10页
为深入探究共面介质阻挡放电(CDBD)的放电特性,从而为优化等离子体源设计提供参考,研究驱动电源类型对CDBD特性的影响,比较高频交流、微秒和纳秒脉冲激励CDBD的放电特性,分析驱动电源对放电均匀性、产生活性粒子密度、能量效率以及反应... 为深入探究共面介质阻挡放电(CDBD)的放电特性,从而为优化等离子体源设计提供参考,研究驱动电源类型对CDBD特性的影响,比较高频交流、微秒和纳秒脉冲激励CDBD的放电特性,分析驱动电源对放电均匀性、产生活性粒子密度、能量效率以及反应器运行温度的影响。结果表明,相比于微秒脉冲和高频交流,纳秒脉冲CDBD的均匀性最好,放电产生的活性粒子密度最大,稳定运行反应器温度最低。在高频交流电压峰-峰值20kV、微秒和纳秒脉冲电压峰值15kV、频率均为5kHz条件下,纳秒脉冲激励反应器达到热平衡时温度不超过100℃,而高频交流激励时反应器温度达到了145℃,对阻挡介质材料耐温性能提出了更高的要求。在相同激励周期内纳秒脉冲CDBD消耗的平均功率最少,能量效率最高,达到63.1%,显著高于微秒脉冲的38.6%和高频交流的21.8%。因此,在CDBD实际应用中,可采用纳秒脉冲电源作为激励源以达到降低反应器温度和提高能量效率的目的。 展开更多
关键词 共面介质阻挡放电 高频交流 微秒脉冲 纳秒脉冲 等效电路 放电特性 能量 效率
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三维共面介质阻挡放电装置及放电特性研究 被引量:4
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作者 李雪林 刘峰 方志 《高压电器》 CAS CSCD 北大核心 2019年第9期150-156,共7页
针对传统介质阻挡放电(DBD)和共面(CDBD)处理三维或不规则材料的不足,文中设计一种由小型微秒脉冲电源驱动的三维CDBD处理装置,在箱体内部由多个单面CDBD反应器组合形成空间环绕式等离子体。通过光学和电学诊断手段测量了装置的放电功... 针对传统介质阻挡放电(DBD)和共面(CDBD)处理三维或不规则材料的不足,文中设计一种由小型微秒脉冲电源驱动的三维CDBD处理装置,在箱体内部由多个单面CDBD反应器组合形成空间环绕式等离子体。通过光学和电学诊断手段测量了装置的放电功率、发光图像以及发射光谱等,研究了电源工作参数对放电均匀性、产生活性粒子强度以及能量效率的影响。结果表明,随着电源电压的升高,放电区域变大,放电均匀性增强,当电压达到11kV时能够激励整个放电区域,形成较均匀的等离子体。相同电压下,活性粒子强度随频率升高而提高,在5kHz工作频率下产生的活性粒子强度最强,能量效率随工作频率升高有所下降,工作频率为1kHz时能量效率最高为40.1%。通过对木块进行表面亲水改性,来验证装置的三维材料处理效果。结果表明,处理后木块各个表面的亲水性均得到增强,处理1min后,达到稳态时的表面水接触角由30°下降至10°,并且由初始值下降至30°以下的液滴静置时间减少了70%以上。 展开更多
关键词 共面介质阻挡放电 微秒脉冲 亲水改性 三维处理
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基于多孔阳极氧化铝的大气压毛细管等离子体电极放电研究
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作者 王坤 李建 +3 位作者 王世庆 金凡亚 但敏 张双 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期863-869,共7页
通过实验和模拟方式,对比分析了介质阻挡放电和基于多孔阳极氧化铝的毛细管等离子体电极放电。应用阳极氧化法制备的多孔阳极氧化铝(Porous anodic alumina,PAA)作为介质层进行了毛细管等离子体电极放电。研究了多孔阳极氧化铝介质层对... 通过实验和模拟方式,对比分析了介质阻挡放电和基于多孔阳极氧化铝的毛细管等离子体电极放电。应用阳极氧化法制备的多孔阳极氧化铝(Porous anodic alumina,PAA)作为介质层进行了毛细管等离子体电极放电。研究了多孔阳极氧化铝介质层对毛细管等离子体电极放电的影响,对比分析了相同几何参量的介质阻挡放电和毛细管等离子体电极放电的放电过程。结果表明:应用多孔阳极氧化铝介质的毛细管等离子体电极放电更稳定,放电中产生的更密的微放电有助于提高放电的稳定性;多孔阳极氧化铝介质层的毛细管等离子体电极放电具有相对于介质阻挡放电高出两个数量级的电子密度和更高的电子温度。等离子体参数具有与多孔阳极氧化铝的孔分布同步的周期性,产生了等离子体射流模式,提高了放电稳定性。 展开更多
关键词 多孔阳极氧化铝 毛细管等离子体电极放电 介质阻挡放电 放电稳定性
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一种新型大气压毛细管介质阻挡放电冷等离子体射流技术 被引量:18
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作者 孙姣 张家良 +1 位作者 王德真 马腾才 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期344-350,共7页
介绍一种结构设计简单、操作运行方便的新型毫米量级大气压冷等离子体射流发生技术.这种射流可以在大气压条件下,利用多种工作气体(如Ar,He,N2),通过毛细管介质阻挡放电(DBD)的方式实现.使用频率为33kHz,峰值电压为1—12kV的双向脉冲电... 介绍一种结构设计简单、操作运行方便的新型毫米量级大气压冷等离子体射流发生技术.这种射流可以在大气压条件下,利用多种工作气体(如Ar,He,N2),通过毛细管介质阻挡放电(DBD)的方式实现.使用频率为33kHz,峰值电压为1—12kV的双向脉冲电源,利用Ar,He,N2等工作气体,在毛细管内形成了稳定的冷等离子体射流.放电区域的光辐射空间分布利用商用CCD摄像机记录,从中研究放电形态和空间分布,观察到了在DBD区域的流动气体放电和在毛细管出口处形成的等离子体射流.在DBD区域,气体静止时发生的是丝状放电,随气流速度的增加逐步转为类辉光放电.在毛细管出口处的等离子体射流区,等离子体的发光强度随气体种类和流速的不同而明显改变.实验中,利用焓探针测量气体的流速,得到了在不同气体中形成的等离子体射流的临界流速是3—8m/s.射流的射程随气体流速的增加而增加,不同气体产生的射流射程差别很大,当He流速为20m/s时,其射流最长达到44mm左右.但当He流速超过20m/s时,He等离子体射流就变得不稳定,出现涡流,而且射程变短.He射流的发射光谱结果显示,其激发温度在2000—3000K之间,远低于大气压电弧射流的激发温度.由此显示,这是一种冷等离子体射流. 展开更多
关键词 冷等离子体射流 毛细管介质阻挡放电 射流射程 射流激发温度
原文传递
常压低温等离子体对酵母菌的失活作用 被引量:1
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作者 金英 任春生 修志龙 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期184-187,共4页
对氦气介质阻挡放电等离子体和氦气毛细管介质阻挡放电冷等离子体射流失活酵母菌的效率和机制进行了比较研究.分析比较了两种等离子体处理的菌液存活曲线和pH值的变化情况;利用扫描电子显微镜观察了菌体表面超微结构的变化.结果显示两... 对氦气介质阻挡放电等离子体和氦气毛细管介质阻挡放电冷等离子体射流失活酵母菌的效率和机制进行了比较研究.分析比较了两种等离子体处理的菌液存活曲线和pH值的变化情况;利用扫描电子显微镜观察了菌体表面超微结构的变化.结果显示两种等离子体对酵母菌均有较强的杀灭作用,介质阻挡放电等离子体处理5 m in后可使其减少约7个数量级,而毛细管介质阻挡放电冷等离子体射流处理后可使其减少约8个数量级;同时经过两种等离子体处理后的pH值均明显下降,且毛细管介质阻挡放电冷等离子体射流处理菌液的pH下降幅度大于介质阻挡放电等离子体处理的菌液;从扫描电子显微镜的照片可以看到两种等离子体处理后的菌体均已破裂.实验结果表明毛细管介质阻挡放电冷等离子体射流失活酵母菌的效率要高于介质阻挡放电等离子体,并且杀菌机理应该与细胞破裂及pH值的变化有关. 展开更多
关键词 介质阻挡放电 毛细管介质阻挡放电 失活 PH值
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Characteristic of Atmospheric Pressure Plasma Jet in Coplanar Dielectric Barrier Discharge
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作者 LIU Lijuan ZHANG Yu OUYANG Jiting 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2248-2253,共6页
Non-thermal plasma jet at atmospheric pressure has recently attracted lots of attention because of its applications in plasma bullet or plasma plume.Thus,we studied on generating plasma jet by coplanar dielectric barr... Non-thermal plasma jet at atmospheric pressure has recently attracted lots of attention because of its applications in plasma bullet or plasma plume.Thus,we studied on generating plasma jet by coplanar dielectric barrier discharge in a device driven by sinusoidal voltage.The processes of plasma discharges in both positive and negative half cycles were recorded using a high-speed ICCD(intensified charge-coupled device)camera;based on the results we estimated the velocity of plasma propagation,and investigated the influence of gas flow on the plasma development.It is shown that the plasma bullets,which have velocity in the order of 103~104m/s,exist only outside the cathode.APPJ(atmospheric pressure plasma jet)is created by the electron beam from the cathode,and then sustained by a strong radial electric field near and outside the cathode.The gas flow influences the APPJ length in air but not the APPJ discharge,while the discharge is affected significantly by the applied voltage. 展开更多
关键词 等离子体射流 介质阻挡放电 大气压力 共面 电荷耦合器件 特性 电压驱动 传播速度
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