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题名气体氢化处理对非晶硅薄膜电化学性能的影响
被引量:1
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作者
尤超
张海民
杨淞婷
罗永春
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机构
兰州理工大学材料科学与工程学院
兰州理工大学理学院
兰州理工大学有色金属先进加工与再利用省部共建国家重点实验室
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出处
《金属功能材料》
CAS
2021年第5期62-68,共7页
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文摘
针对传统水系镍氢电池电化学窗口较窄以及能量密度较低的缺点,基于硅材料优异的储氢性能,采用射频磁控溅射方法和后气体氢化处理分别制备非晶硅(a-Si)和氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜作为镍氢电池负极材料,通过XRD、TEM、XPS、SEM、EDS和电化学测试等方法研究了气体氢化处理前后非晶硅薄膜结构以及其在质子型离子液体中的电化学性能。结果表明,溅射所制备的硅薄膜呈非晶态,溅射后在硅薄膜与镍衬底界面处形成了硅镍化合物相,且溅射时非晶硅薄膜有一定程度的氧化。经气体氢化处理后,非晶硅薄膜中硅与氢形成SiH、SiH2和SiH3三种键合方式,并伴有少量的非晶硅晶化发生,薄膜发生一定程度的剥落,且氧化程度加重。电化学测试分析表明,溅射态非晶硅薄膜电极的放电容量很低(113 mAh·g^(-1)),气体氢化后的非晶硅薄膜电化学性能显著改善,当气体氢化30 min时薄膜电极具有最大的放电容量480 mAh·g^(-1),其充放电20个循环后其容量仍未衰减。
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关键词
非晶硅薄膜
磁控溅射
气体氢化处理
质子型离子液体
电化学性能
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Keywords
amorphous silicon film
megnetron sputtering
gas hydrogenated treatment
proton ionic liquid
electrochemical properties
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分类号
TB383.2
[一般工业技术—材料科学与工程]
TM912
[电气工程—电力电子与电力传动]
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