气体离子源辅助电弧离子镀在硬质合金表面制备AlCrN涂层的性能

分别采用气体离子源辅助电弧离子镀和普通电弧离子镀方法在硬质合金表面沉积了AlCrN涂层,并对两种方法制备的AlCrN涂层的组织、成分、硬度、结合强度和耐磨性进行了对比分析。结果表明:两种方法制备的AlCrN涂层表面平整,涂层结合强度均在100 N以上。普通电弧离子镀方法制备的AlCrN涂层厚度较薄,金属原子占比较小,表面粗糙度相对较低,摩擦系数较小,硬度和耐磨性也较低。由于气体离子源辅助沉积具有提高金属原子离化率的作用,气体离子源辅助电弧离子镀方法制备的AlCrN涂层生长速率更快,硬度和耐磨性提高。

基于元学习的气体放电等离子体电子Boltzmann方程数值求解

在气体放电等离子体中,电子的输运行为可由Boltzmann方程精确描述,该方程的解是许多等离子体仿真模型的基础。物理信息神经网络作为一种求解Boltzmann方程的新型方法,虽克服了传统数值方法网格剖分和方程离散的缺陷,但其参数空间规模大,在求解多任务时训练效率较低。为此,该文构建了一种基于元学习的双循环物理信息神经网络,在内循环中对多个Boltzmann方程求解任务进行优化训练,得到各任务优化后的元损失函数,用于在外循环中进行网络参数更新,从而提高网络在求解新任务时的计算效率。计算结果表明,基于元学习的双循环物理信息神经网络在求解新的Boltzmann方程时,网络损失函数值和L2误差值的下降速度均显著快于普通的物理信息神经网络。此外,该文还研究了网络容量和内循环迭代次数对Boltzmann方程多任务求解效率的影响,结果显示计算效率并不随网络容量的增大而提高,且受内循环迭代次数影响较小。

基于少周期激光脉冲与气体等离子体作用的太赫兹到中红外超宽带辐射产生

超强少周期激光脉冲与气体等离子体作用可以产生强的宽带太赫兹脉冲辐射。本文以数值计算为主要工具研究了少周期激光脉冲与气体等离子体成丝作用产生的等离子体电流及对应的太赫兹辐射特性。该过程中的等离子体电离处于多光子电离和隧道电离的过渡阶段。结果显示,该机制能够产生从太赫兹到中红外的超宽带辐射,且辐射的电场振幅是少周期激光脉冲载波相位的周期函数。太赫兹脉冲由激光脉冲脉宽和等离子体电离的时间演化确定,而不是由等离子体密度决定。本文为基于少周期激光脉冲与气体等离子体作用产生超宽带太赫兹辐射的实验提供了一定的理论参考。

惰性气体离子注入铝镁尖晶石合成金属纳米颗粒的探索

实验在表面蒸镀了金属(Cu,Au)薄膜的尖晶石(MgAl2O4)样品中注入惰性气体离子(Ar,He),随后对注入样品进行了退火处理.在紫外可见光谱上观察到了由于金属纳米颗粒存在引起的较强的表面等离子体共振吸收峰,提供了材料中金属纳米颗粒形成的证据.采用这种方法在材料中引入金属纳米颗粒,发现影响金属纳米颗粒形成的因素除了退火温度外,金属薄膜厚度的影响不可忽略.

多组元气体、金属脉冲离子源

介绍了多组元气体、金属脉冲离子源的结构、工作原理和功能。给出该源的调试指标为 :引出电压 80kV ;引出脉冲束流 ,Ti+为 1.8A、N+为 1.2A、Ti++N+为 3.0A ;脉冲宽度 2 50 μs ;束斑面积2 2cm(380cm2 ) ;均匀度为± 2 0 %。该源具有多功能、脉冲流强大、束斑大、高电荷态等特点。

基于低温常压等离子体处理三种全瓷贴面修复后对色彩学性能和光学性能的影响

目的探究基于低温常压等离子体处理三种全瓷贴面修复后对色彩学性能和光学性能的影响。方法选取我院2019年1月~2021年12月收治的全瓷贴面修复患者100例,采用随机数字表法将患者分为三组:A组(高透二硅酸锂玻璃陶瓷组)33例,B组(高透氧化锆陶瓷组)34例,C组(精细长石陶瓷组)33例。比较三组的颜色稳定、光学性能以及修复效果。结果治疗后,三组色彩学性能相比,差异有统计学意义(P<0.05);其中B、C两组L*值均高于A组,a*、b*、ΔE值均低于A组,差异有统计学意义(P<0.05);C组L*值低于B组,a*、b*、ΔE值均高于B组,差异有统计学意义(P<0.05)。治疗后,三组TP值均小于1,组间比较差异有统计学意义(P<0.001)。治疗后,三组患者修复效果相比,差异具有统计学意义(P<0.05);其中B组牙列完整、牙面颜色自然、牙面边缘自然和牙体通透均高于A、C组,与A组差异具有统计学意义(P<0.05),与C组差异无统计学意义(P>0.05);A、C两组修复效果相比,差异无统计学意义(P>0.05)。结论经过常压等离子体处理后的三种全瓷贴面修复在色彩学性能、光学性能和修复效果上有良好的影响,能提升色彩学性能,保持较好的光学性能,获得令人满意的修复效果。

炮口高速等离子气体及飞行弹丸对感应装定影响的试验研究

炮口感应装定是一个高速动态过程,在详细分析弹丸飞经感应区间过程的基础上,研究了测试炮口高速等离子气体和高速弹丸对感应装定系统影响的方法,设计了3项测试内容。通过耦合测试线圈,测得了炮口装定信号耦合曲线。结果表明高速电离气体形成的电磁场影响了感应装定系统信号传输,通过在炮口装置上开泄气孔的方式,可以减小它对感应装定信号传输的干扰;高速飞行的弹丸改变了感应装定区间的电磁场分布特性,使感应耦合信号幅值降低。

11O型光离子化气体分析仪

介绍了110型光离子化气体分析仪的原理、优点、技术指标。实验结果表明该仪器能灵敏、检出限低，同时也给出了该仪器检测和不能检测的主要化合物名单。

便携式光离子化VOCs气体检测器设计

设计了快速检测挥发性有机物的便携式光离子化检测器。该检测器使用真空紫外灯作为电离光源,以STM32F103RCT6作为微控制器,完成了光电离室、紫外灯驱动电路、信号检测电路和USB充电电路等模块的设计。同时可显示温度和湿度参数,并具有WiFi传输功能。使用0~200 ppm(1 ppm=10^(-6))异丁烯气体对该检测器进行定标验证,实验证明该检测器具有良好的重复性,拟合度达到0.99762,稳定性为2.72%,检测限达到2.2 ppm,响应时间为8~10 s,能够满足VOCs的快速和便携式检测。

等离子—熔化极气体保护焊电弧特性研究现状

等离子—熔化极气体保护焊的电弧形态和熔滴过渡方式直接关系到焊缝质量,采用不同的电极连接形式,如直流正接、直流反接,电弧形态及熔滴过渡方式均不同;主要介绍了目前等离子—熔化极气体保护焊在采用不同的电极连接形式下,不同的电弧形态和熔滴过渡方式,以及电弧成分组成和温度分布;通过对熔化极等离子弧静特性等方面的研究发现,熔化极电流的大小不是由焊丝与工件间的电压决定的,而是由导电嘴与焊丝端部处的等离子弧电位差决定的,并决定电流的方向。

大气压气体放电等离子体流动控制概述

等离子体与固体、液体、气体一样,是物质的一种存在形态,也被称之为物质的第四态.首先简要介绍了气体放电等离子体的基本特性、等离子体在空间中的广泛存在状态、等离子体的划分方法、产生方法以及气体放电等离子体研究的发展历程;其次进一步介绍了流动控制技术在航空航天领域的重要性、流动控制技术的分类、主动流动控制的技术优势以及流动控制技术的作用机理等;然后着重介绍了大气压气体放电等离子体流动控制技术在国内外的发展现状,并主要介绍了大气压介质阻挡放电等离子体流动控制技术的技术优势及其在流动控制领域中的研究现状;最后文章对大气压介质阻挡放电等离子体流动控制领域的研究工作进行了展望.

等离子—熔化极气体保护焊设备及其应用

介绍了等离子—熔化极气体保护焊接的工艺过程,并与常规熔化极气体保护焊相比较分析了焊接过程的优缺点。对等离子—熔化极气体保护焊接的应用及焊枪的发展作了简要的描述。

静电场中离子气体的内能

从离子气体的微观理论出发，借助平板电容器，球形电容器，探讨了静电场中离子气体的内能。得到了切合实际的计算结果。

气体成分对超低压等离子喷涂制备YSZ涂层组织结构的影响

【目的】分析超低压下不同气体产生的热喷涂等离子射流特性与制备涂层之间的关系。【方法】以氩氢和氩氦2种混合气体产生的热喷涂等离子射流,并使用这2种混合气体在不同电流强度下沉积氧化钇稳定氧化锆(YSZ)涂层,使用扫描电镜观察涂层微观结构。【结果】超低压下,氩氢等离子射流中的温度要高于氩氦等离子体射流,而氩氦等离子射流中的黏度要大于氩氢等离子体射流;氩氦等离子体可以制备出的全纳米等轴晶的YSZ涂层,功率增加,涂层中的晶粒变大,氩氢等离子体制备的YSZ涂层是由大颗粒的等轴晶和未熔化的粉末团以及大的裂纹和气孔组成。【结论】氩氦等离子射流更有利于均匀一致等轴晶结构YSZ涂层的制备。

微波感耦稀有气体等离子体光谱激发的空间分布特性

微波感耦等离子体(MIP)独具一些其它低温等离子体所不及的优点,它装置简单,阻抗稳定,匹配容易,炬焰稳定无噪声,无电极污染,活性粒子多,效率高,因而有广泛的应用前景。然而,有关这类等离子体的各种参量的空间分布和光谱激发过程的研究,迄今仍缺乏比较详尽和满意的结果。

负电性气体等离子体中流体模型定标律研究

从等离子体流体力学方程出发,求导了负电性气体中等离子体流体模型定律,根据这个定标律,可以从放电电压V_rf、气压P_r、功率P_w,直接得到等离子体中电子密度N_e,负离子密度N_-、正离子密度N_+、电子温度Te及等离子体中各中间产物的密度及其与放电宏观参数的关系。为研究等离子体中粒子输运过程和等离子体与材料相互作用过程提供了一个重要手段。

气体等离子体辐射光声信号检测与分析

气体等离子体做为一种新的辐射源,因具有辐射范围宽等优点而备受关注。本文对强飞秒激光脉冲诱导大气等离子体辐射光声信号现象进行了探究,用实验的方法探测和分析了激光脉冲能量、偏振方向以及声传输的径向距离对光声信号强度的影响。

气体放电等离子体(DPP)极紫外光源研究进展

极紫外光刻技术被认为是下一代最有潜力的光刻技术,对推动集成电路发展具有重要作用。极紫外光源是极紫外光刻技术的源头,其技术水平直接制约了光刻技术的发展。气体放电等离子体极紫外光源结构简单,转换效率高,适合大规模工业应用,具备良好的应用前景。现有气体放电等离子体光源包括毛细管放电等离子体极紫外光源、激光辅助等离子体极紫外光源、等离子聚焦极紫外光源和中空阴极管放电等离子体极紫外光源等。近年来,极紫外光光刻技术工业化进展较快,该文对气体放电等离子体技术做了综述,掌握最新研究进展有助于推动我国相关领域研究。

气体等离子体与水溶液的相互作用研究——意义、挑战与新进展

大气压冷等离子体在环境保护、生物医学、纳米制造等领域具有广阔的应用前景。这些应用中,被处理物常常处于水环境中,气体等离子体与水溶液的相互作用是影响应用效果的关键因素。虽然人们对等离子体本身开展了大量研究,但所获知识难以延伸到水溶液中,对上述相互作用的探究尚处于起步阶段。特别是等离子体产生的活性粒子如何传质进入水溶液,如何在水溶液中转化,以及最终作用到被处理物的是什么组分等科学问题,尚缺乏定量解析;理论知识的欠缺限制了对活性粒子成分与剂量的准确调控,严重阻碍了应用的发展。气体等离子体与水溶液相互作用已经成为当前国际等离子体界最热门的研究课题之一,为此综述了该方向的研究现状、关键科学问题与最新研究进展,以期促进相关的研究工作。