半导体厂房气态分子污染物控制探讨

气态分子污染物(AMC)越来越成为半导体厂房建设、运营过程中需要解决的主要问题之一。本文结合AMC控制原理、技术标准、实际工程经验、工厂运行数据、实验数据等简要阐述了半导体厂房对AMC的控制要求、废气排放高度对新风入口位置的影响、新风空调机组中水洗装置的设计要点、各种化学过滤器的性能参数,为同类项目的建设提供参考。

气态分子污染物的控制研究

首先从取样与分析着手研究。分析了设施内外的空气质量,识别出目标污染物以及那些可能影响气态分子污染(AMC)控制系统性能的物质;其次,针对AMC的种类与水平,提出AMC控制系统选择并验证方法;最后,提出对受控环境以及AMC控制系统的性能实施定期定点的监测要求与措施,是指导AMC控制系统不断优化的依据。

洁净室气态分子污染物的监测技术

随着微电子工业工序复杂性的增加和产品尺寸的不断缩小,气态分子污染物(AMC)对产品的影响成为洁净室环境控制中重点关注的问题。文章介绍了洁净室中AMC的定义,重点阐述了AMC的监测技术。

活性炭吸附低浓度SO_(2)和丙酮的分子模拟研究

随着集成电路线宽的减小,电子工业洁净室中的气态分子污染物呈现出浓度低、种类多的特点。极低分压条件下,气态分子污染物在活性炭基化学过滤器中的竞争吸附机理尚不清楚。本文基于巨正则蒙特卡罗(GCMC)和分子动力学(MD)方法,模拟了不同温度和相对湿度下活性炭对低浓度SO_(2)和丙酮的吸附过程。结果表明:活性炭对SO_(2)和丙酮的吸附量随温度的升高而降低,随相对湿度的增大变化不明显;SO_(2)和丙酮同时存在对活性炭的初始吸附能力没有明显影响。

电子洁净室气态化学污染环境控制规范分析

针对气态化学污染控制,回顾了电子洁净室环境控制规范的发展历史和主要内容。从污染物分类、洁净等级划分等方面对比了不同国家及不同组织规范的异同,对现行规范进行了对比总结,分析了电子洁净室环境控制规范的特点、发展趋势及存在的不足。对比了电子洁净室环境控制规范与住宅空气质量规范及大气环境规范,总结了洁净室环境控制的特殊性,并对中国洁净室环境控制规范的修订提出了建议。

电子行业用化学过滤器性能评价方法研究

化学过滤器的性能参数是用户在使用过程中对化学过滤器进行维护时的重要参考指标,然而实际使用时场景复杂,导致用户无法使用化学过滤器出厂时的性能参数来评估其实际使用情况。本文从化学过滤器的实际使用场景出发,总结了化学过滤器在实际使用中所遇到的问题;结合现有化学过滤器评价的相关规范和相关研究,给出了未来发展方向的建议。

洁净室化学过滤器的选型及使用效果研究

随着半导体工业的飞速发展,最小线宽的尺寸越来越小,进入纳米级时代,从而相应的对洁净室环境的控制越加严格。洁净室环境内的悬浮气态分子污染物AMC(Airborne Molecular Contaminants)在生产过程中对良率会产生影响,因此对AMC进行控制是十分必要的。在洁净室进风箱或风机过滤单元FFU(Fan Filter Unit)进风端安装化学过滤器可以较好的解决洁净室内AMC的困扰。本文介绍了洁净室内化学过滤器的选型介绍及使用案例。

化学过滤器在半导体洁净室新风净化中的应用

在半导体行业,空气中的悬浮气态分子污染物对于制程的潜在危害越来越受到人们的重视。目前,在通风系统中使用化学过滤器是去除AMC的主要方法之一。结合工程实例,介绍了半导体行业在新风处理单元中加装化学过滤器的实际效果。

半导体制程废气处理技术实践

讨论了半导体制造废气处理技术与排放,包括热排气、酸性排气、碱性排气和有机排气这四种工艺废气处理设备的应用和处理原理,以及在实际的操作运行中不同系统控制参数对处理效率的影响,并通过实验确定合理的参数设定范围。特别阐述了有机废气处理技术和相关处理设备的应用和操作运行,以及实现系统高效节能运行的技术实践,对半导体厂实现环境保护以及降低气态分子级污染物对生产的影响提供了现实可行的操作依据。