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掺氢GaAs薄膜的表面形貌及光学性质研究
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作者 朱慧群 丁瑞钦 +5 位作者 吴桐庆 蔡继业 胡怡 杨恢东 丁才蓉 汪河洲 《云南大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2005年第S3期609-612,共4页
采用射频磁控溅射和沉积气氛掺氢工艺制备了GaAs薄膜,研究掺氢对薄膜的表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射结果显示,以衬底温度为500℃制备出的GaAs薄膜呈面心立方闪锌矿结构.原子力显微镜分析表明气氛掺氢会影响到GaAs薄膜的形貌和颗... 采用射频磁控溅射和沉积气氛掺氢工艺制备了GaAs薄膜,研究掺氢对薄膜的表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射结果显示,以衬底温度为500℃制备出的GaAs薄膜呈面心立方闪锌矿结构.原子力显微镜分析表明气氛掺氢会影响到GaAs薄膜的形貌和颗粒的大小.在500℃衬底温度下溅射气氛掺氢制备出的GaAs薄膜的吸收光谱出现了明显的激子峰,表明氢钝化对薄膜的光学性质的改善起重要的辅助作用. 展开更多
关键词 射频磁控溅射 GaAs薄膜 气氛掺氢 吸收光谱 氢钝化
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