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金属有机气相外延法生长优质GaSb
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作者 邓态杰 《有色与稀有金属国外动态》 1996年第11期1-2,共2页
关键词 镓锑合金 有机气相外延法 非掺杂
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有机金属气相外延生长法
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作者 靳敏 《电子材料快报》 1995年第11期14-15,共2页
关键词 有机金属 气相外延法 化合物半导体
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AlN单晶氢化物气相外延生长技术研究进展
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作者 张电 朱容昕 +1 位作者 杨晓凤 刘一军 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期1761-1777,共17页
氮化铝(AlN)晶体具有超宽禁带、深紫外透明、高热导率、高声速以及高温稳定等优异特能,成为当前半导体领域的关键前沿材料之一。它是氮化镓(GaN)基功率半导体器件和深紫外光电器件的理想衬底,也是深紫外光电器件和声表面波器件领域的关... 氮化铝(AlN)晶体具有超宽禁带、深紫外透明、高热导率、高声速以及高温稳定等优异特能,成为当前半导体领域的关键前沿材料之一。它是氮化镓(GaN)基功率半导体器件和深紫外光电器件的理想衬底,也是深紫外光电器件和声表面波器件领域的关键材料。经过1960年代至今的漫长发展历程,AlN晶体生长相关技术种类繁多,但长期以来缺少较为系统的综述。本文介绍了AlN晶体的晶体结构以及主要的性质、应用场景和要求;对AlN晶体生长技术简要分类,重点阐述氢化物气相外延法(HVPE),从原理、生长区结构、温度、气氛、衬底、工艺、应用技术以及优劣势等层面梳理研究进展;最后,指出当前HVPE AlN技术面临的主要挑战。 展开更多
关键词 氮化铝晶体 半导体 晶体生长 氢化物气相外延法
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长波红外用准相位匹配材料研究进展 被引量:1
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作者 王健 程红娟 高彦昭 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第8期1397-1404,1442,共9页
8~12μm长波红外波段激光在红外对抗系统、测距和瞄准系统、痕量气体监测、频谱分析和无线通信等多个领域具有重要的应用价值。随着红外固体激光器的波长不断向长波长扩展,急需长波红外非线性光学材料。但是CdSe、GaSe、ZnGeP2、AgGaSe2... 8~12μm长波红外波段激光在红外对抗系统、测距和瞄准系统、痕量气体监测、频谱分析和无线通信等多个领域具有重要的应用价值。随着红外固体激光器的波长不断向长波长扩展,急需长波红外非线性光学材料。但是CdSe、GaSe、ZnGeP2、AgGaSe2、LiInSe2、CdGeAs2、BaGa4Se7等非线性光学晶体受长波红外透过率、非线性系数、热导率、泵浦源波长的影响,而通过发展OP-GaAs、OP-GaP、OP-ZnSe等性能优异的准相位匹配材料来实现长波激光输出有望克服上述材料的缺点。本文主要对长波红外用准相位匹配材料进行梳理,分别从材料性能、制备技术,以及激光应用等方面综述它们的研究进展并对其应用潜质和技术瓶颈进行分析。 展开更多
关键词 位匹配 键合 取向图案化 氢化物气相外延法 取向图案化砷化镓
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VPE ZnS_xSe_(1-x)外延膜的生长及其光致发光
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作者 张家骅 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第3期186-191,共6页
本文用气相外延(VPE)法在(100)GaAs衬底上生长了ZnS_xSe_(1-x)外延膜,并通过改变ZnS源温度和衬底温度使组分x值控制在0—1范围内。外延膜在77K时的光致发光(PL)光谱的近带边发射峰很强,半高宽较窄,这表明VPE ZnS_xSe_(1-x)外延膜的质量... 本文用气相外延(VPE)法在(100)GaAs衬底上生长了ZnS_xSe_(1-x)外延膜,并通过改变ZnS源温度和衬底温度使组分x值控制在0—1范围内。外延膜在77K时的光致发光(PL)光谱的近带边发射峰很强,半高宽较窄,这表明VPE ZnS_xSe_(1-x)外延膜的质量较高。 展开更多
关键词 气相外延法 ZNSE ZNS 外延
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AlN单晶衬底的制备及研究进展
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作者 齐志华 《电子工业专用设备》 2021年第3期1-7,共7页
氮化铝(AlN)作为直接带隙半导体且禁带宽度为6.2 eV,使其在深紫外光电子器件(如半导体激光器、日盲光探测器等)、高频大功率射频器件等领域具有广泛的应用前景,而高性能器件的实现需要高质量AlN衬底作为基础。对AlN材料的基本性质进行... 氮化铝(AlN)作为直接带隙半导体且禁带宽度为6.2 eV,使其在深紫外光电子器件(如半导体激光器、日盲光探测器等)、高频大功率射频器件等领域具有广泛的应用前景,而高性能器件的实现需要高质量AlN衬底作为基础。对AlN材料的基本性质进行了阐述,着重对AlN单晶衬底的制备方法进行了介绍:物理气相传输法(PVT)、氢化物气相外延法(HVPE)和基本元素气相沉积法(EVPE),并对AlN材料在光学、电学、化学、磁学领域的应用进行了展望。 展开更多
关键词 氮化铝(AlN) 物理传输(PVT) 氢化物气相外延法(HVPE) 基本元素沉积(EVPE)
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Effect of Substrate Nitridation on Properties of Thick GaN Film Grown by Hydride Vapour Phase Epitaxy
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作者 YEHao-hua YUGuang-hui +2 位作者 LEIBen-lian QIMing LIAi-zhen 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2005年第1期28-31,共4页
Thick GaN films were grown on the sapphire substrate by hydride vapour phase epitaxy. The properties of GaN films were found to be significantly influenced by the duration of exposing the sapphire substrate to ammonia... Thick GaN films were grown on the sapphire substrate by hydride vapour phase epitaxy. The properties of GaN films were found to be significantly influenced by the duration of exposing the sapphire substrate to ammonia prior to the GaN growth initiation. The crystalline quality of GaN films revealed by high resolution X-ray diffraction were strongly dependent on the nitridation time, which determined substrate surface topography. The different nitridation schemes strongly affected the morphology of GaN overlayers resulting in the blue shift of the main excitonic peak in photoluminescence spectra at room temperature. 展开更多
关键词 substrate nitridation GaN hydride vapour phase epitaxy
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1.3μm高增益偏振无关应变量子阱半导体光放大器 被引量:4
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作者 马宏 易新建 陈四海 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期971-974,共4页
采用低压金属有机化学气相外延法 (LP MOVPE)生长并制作了 1 3μm脊型波导结构偏振无关半导体光放大器 (SOA) ,有源区为基于四个压应变量子阱和三个张应变量子阱交替生长的混合应变量子阱 (4C3T)结构 ,压应变阱宽为 6nm ,应变量 1 0 % ... 采用低压金属有机化学气相外延法 (LP MOVPE)生长并制作了 1 3μm脊型波导结构偏振无关半导体光放大器 (SOA) ,有源区为基于四个压应变量子阱和三个张应变量子阱交替生长的混合应变量子阱 (4C3T)结构 ,压应变阱宽为 6nm ,应变量 1 0 % ,张应变阱宽为 11nm ,应变量 - 0 95 % ;器件制作成 7°斜腔结构以有效抑制腔面反射。半导体光放大器腔面蒸镀Ti3 O5/Al2 O3 减反 (AR)膜以进一步降低腔面剩余反射率至 3× 10 -4以下 ;在 2 0 0mA驱动电流下 ,光放大器放大的自发辐射 (ASE)谱的 3dB带宽大于 5 0nm ,光谱波动小于 0 4dB ,半导体光放大器管芯的小信号增益近 30dB ,在 12 80~ 1340nm波长范围内偏振灵敏度小于 0 6dB ,饱和输出功率大于 10dBm ,噪声指数 (NF)为 7 5dB。 展开更多
关键词 激光技术 偏振无关 半导体光放大器 应变量子阱 金属有机化学气相外延法
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缓冲层生长压力对MOCVD GaN性能的影响 被引量:2
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作者 陈俊 张书明 +6 位作者 张宝顺 朱建军 冯淦 段俐宏 王玉田 杨辉 郑文琛 《中国科学(E辑)》 EI CSCD 北大核心 2004年第1期58-63,共6页
利用自制的在位监测系统,研究了用金属有机物化学气相外延法(MOCVD)在蓝宝石衬底上生长GaN时,GaN低温缓冲层的生长压力对高温生长GaN外延层性能的影响规律.在位监测曲线及扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明,缓冲层生长压力越大,GaN缓冲... 利用自制的在位监测系统,研究了用金属有机物化学气相外延法(MOCVD)在蓝宝石衬底上生长GaN时,GaN低温缓冲层的生长压力对高温生长GaN外延层性能的影响规律.在位监测曲线及扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明,缓冲层生长压力越大,GaN缓冲层退火后成核中心体积越小,表面粗糙度越大,高温生长GaN岛间合并延迟.X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)测量结果表明,GaN缓冲层生长压力增大时外延的GaN结晶质量得到改善. 展开更多
关键词 缓冲层 生长压力 MOCVD 氮化钙 在位监测 成核 宽带隙半导体材料 化学气相外延法
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