气相常压法α-蒎烯加氢制蒎烷Ni/γ-Al_2O_3催化剂研究

对Ni/γ-Al2O3催化剂在气相常压法α-蒎烯加氢反应中的作用进行了研究,TPR结果显示NiO与γ-Al2O3发生了相互作用,进入了γ-Al2O3表面上的四面体和八面体空位,其中由进入γ-Al2O3表面上八面体空位的NiO还原出的金属Ni是本反应的催化剂成分,而进入四面体的Ni不起作用。增加Ni含量利于提高α-蒎烯的转化率。

CO常压气相催化偶联法合成草酸酯新工艺

介绍一氧化碳常压气相催化偶联合成草酸二乙酯的基本原理、工艺流程、原材料及产品的规格、公用工程及消耗定额 ,分析该工艺的特点以及经济和社会效益。该工艺环境友好、技术先进 。

常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究

在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜。对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究。随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的。光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能。然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能。

常压等离子体增强化学气相沉积法表面功能化聚酯织物

对于纺织材料的表面改性来说,等离子体技术正成为一种新兴且环境友好的技术。等离子体技术在纺织品表面可沉积具有特殊功能的薄膜。阐述了一种常压等离子体增强化学气相沉积法表面改性100%聚酯织物的新型方法。通过傅里叶变换红外光谱研究了沉积于样品表面上相对于放电功率的等离子体聚合物化学和结构性质。采用雾化试验和接触角测量赋予织物诸如疏水等的功能特性。

重掺硅片表面APCVD法生长SiO_(2)薄膜的致密性

在硅片加工过程中,金属杂质的存在会增大pn结器件的漏电流,甚至直接导致pn结禁带宽度变窄,为防止出现硅外延过程中造成的自掺杂现象,通常在硅片表面生长一层高致密性的SiO_(2)薄膜。基于常压化学气相沉积(APCVD)法在6英寸(1英寸≈2.54 cm)n型硅片表面生长SiO_(2)薄膜,首先研究不同沉积温度、SiH_(4)和O_(2)的体积流量比对沉积速率和SiO_(2)薄膜致密性的影响,进一步探究了不同退火温度对SiO_(2)薄膜致密性的影响,以期获得致密性较高的SiO_(2)薄膜。采用HF腐蚀速率法表征其致密性,采用扫描电子显微镜(SEM)观察SiO_(2)薄膜的表面形貌,采用F50膜厚测试仪测试SiO_(2)薄膜的厚度。结果表明,沉积温度为400℃,SiH_(4)和O_(2)的体积流量比为1∶10,退火温度为1100℃时,制备的SiO_(2)薄膜的致密性为0.096 nm/s(采用体积分数为1%的HF腐蚀)。

常压化学气相沉积法制备Ti_5Si_3薄膜及其镀膜玻璃

以制备兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、四探针测阻仪和分光光度计对薄膜的相结构、形貌、电学、光学性能进行了表征。结果表明:薄膜为六方结构的Ti5Si3晶相,晶相含量较高,晶粒尺寸为23nm,薄膜中的晶粒以200nm左右的多晶颗粒团聚体形式存在。薄膜电阻率为122μΩ·cm,与Ti5Si3晶体的本征电阻率相当。这种单层镀膜玻璃的红外反射率可高达92.1%,可见光区的透过率为25%,兼具阳光控制和低辐射功能。

常压化学气相沉积SiO_2涂层的制备及其性能研究

以正硅酸乙酯(TEOS)为源物质,空气为载气和稀释气,采用常压化学气相沉积法(APCVD)在HP40钢表面制备了SiO2涂层.采用光学显微镜、扫描电子显微镜、能量色散能谱仪、D\MAX-C型X射线衍射仪、显微硬度仪等,研究了SiO2涂层的组织结构、表面形貌、物相组成和显微硬度;并用热震实验法和剥离实验法研究了涂层与HP40基体的结合强度.结果表明,所制备的SiO2涂层厚度约为1μm,由细小颗粒组成,颗粒比较均匀、大部分颗粒的粒径均在1μm以下;涂层无明显孔隙,与基体的结合强度较高;其显微硬度明显高于HP40基体.

三聚氰胺生产方法的比较

对国内现有的三聚氰胺生产装置进行了分析比较 。

HP40钢表面沉积SiO_2功能涂层工艺

以正硅酸乙酯为源物质,空气为载气,采用常压化学气相沉积法在HP40(25Cr35Ni)合金钢基体上制备了SiO2涂层;研究了沉积温度、源物质温度以及气体流量等工艺参数对沉积速率的影响,并通过XRD和SEM分析了涂层的物相组成及表面形貌。结果表明:用此方法可在HP40钢表面沉积出表面均匀致密且与基体具有一定结合强度的涂层,较合理的工艺参数为源物质温度60℃、沉积温度800℃、气体流量3.33 L.min-1。

退役炉管内表面二氧化硅涂层的制备及抗结焦性能研究

采用常压化学气相沉积法在退役Fe-Cr-Ni炉管内表面制备了SiO2涂层,对其抗结焦性能进行了研究。运用扫描电子显微镜和能量色散谱仪分析了原始退役炉管及SiO2涂层的表面形貌和组织结构;考察了在乙烯裂解的工艺条件下SiO2涂层的抗结焦能力,并对其抗热冲击性能进行了研究。结果表明,所制备的涂层表面完整、粒子结合致密,结焦试验2 h的结焦抑制率为70.6%;涂层可以经受7次900℃高温水冷热冲击试验。采用常压化学气相沉积法在炉管内表面制备SiO2涂层是行之有效的抑制结焦的方法。

N-正丁基苯胺的合成研究及其应用

介绍了N-正丁基苯胺的合成方法及其应用,研究了常压气相合成N-正丁基苯胺的工艺过程,研制了优质催化剂复合金属氧化物,确定最佳反应条件为:反应温度240℃~260℃,苯胺与正丁醇摩尔比(1.0∶1.4)^(1.0∶1.6),液时空速1.1h-1,催化剂选择性为99%以上。

反射红外及自清洁的多功能镀膜玻璃的制备

以钛酸异丙酯[Ti(OC_4H_7)_4,TTIP]、单丁基三氯化锡[C_4H_9SnCl_3,MBTC]及三氟乙酸[CF_3COOH,TFA]作为反应前驱体,利用常压化学气相沉积法制备具有反射红外及自清洁功能的多功能TiO_2/SnO_2∶F复合膜镀膜玻璃。通过扫描电镜、X射线衍射及近红外光区反射光谱等技术手段对其进行分析,研究了反应物TTIP的流量变化及SnO_2∶F薄膜对TiO_2薄膜性能的影响。结果表明:随着TTIP流量的增大,TiO_2/SnO_2∶F在高频近红外波段的反射率逐渐提高,但其光降解甲基橙的性能先提高后降低;SnO_2∶F薄膜可以改善复合膜中TiO_2的致密性,提高TiO_2在近红外的反射率,同时TiO_2/SnO_2∶F复合膜可以有效延长电子-空穴对的复合时间,从而提高了TiO_2薄膜的光降解性能。

在线APCVD镀膜玻璃渐变过渡层性能研究

通过在线常压化学相沉积镀膜手段制备了FTO玻璃的单层硅/锡混合过渡膜层,并通过各种分析手段测试了可见光透过率、方块电阻、膜层表面结构及纵向元素分布等性能,研究了其结构组成对各项性能的影响。结果表明:膜层中Sn含量由表面至基底玻璃逐渐减小同时Si含量逐渐增加,为良好的SiO_2/SnO_2渐变结构膜层;膜层可见光透过率主要由其膜层结构决定,在一定的范围内,可以通过调整膜层的渐变结构来改变其可见光透过率;表层致密程度及膜层结构渐变可以改善膜层的导电性;可作为FTO镀膜玻璃的过渡层使用。

氮化钛作为新型节能玻璃涂层的研究

利用常压化学气相沉积法(APCVD)以四氯化钛(TiCl4)和氨气(NH3)作为反应物在玻璃基板上沉积制备了氮化钛(TiN)薄膜.分别用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结晶性能、微观结构、表面形貌和光学、电学性能进行了分析.结果表明,制备的TiN薄膜厚度为500nm,具有NaCl型面心立方结构并表现出(200)晶面的择优取向,薄膜的晶粒大小分布均匀.在可见光区的透射率达到60%,反射率小于10%.在近红外光区的反射率达40%以上.方块电阻为34.5Ω,按照Drude理论可以计算出薄膜的中远红外反射率为71.5%,说明制备的TiN薄膜在保证足够取光的条件下表现出良好的节能性能.

ZnO/AlN/Si(111)薄膜的外延生长和性能研究

用常压金属化学气相沉积法(MOCVD)在Si(111)衬底上制备了马赛克结构ZnO单晶薄膜。引入低温Al N缓冲层以阻止衬底氧化、缓解热失配和晶格失配。薄膜双晶X射线衍射2θ/ω联动扫描只出现了Si(111)、ZnO(000l)及Al N(000l)的衍射峰。ZnO/Al N/Si(111)薄膜C方向晶格常量为0.5195nm,表明在面方向处于张应力状态;其对称(0002)面和斜对称(1012)面的双晶X射线衍ω摇摆曲线半峰全宽分别为460″和1105″;干涉显微镜观察其表面有微裂纹,裂纹密度为20cm-1;3μm×3μm范围的原子力显微镜均方根粗糙度为1.5nm;激光实时监测曲线表明薄膜为准二维生长,生长速率4.3μm/h。低温10K光致发光光谱观察到了薄膜的自由激子、束缚激子发射及它们的声子伴线。所有结果表明,采用金属化学气相沉积法并引入Al N为缓冲层能有效提高Si(111)衬底上ZnO薄膜的质量。

阻隔紫外线和防静电的节能镀膜玻璃的制备

利用常压化学气相沉积法,以钛酸异丙酯[Ti(OC3H7)4,TTIP]和单丁基三氯化锡[C4H9SnCl3,MBTC]为前驱体、三氟乙酸[CF3COOH,TFA]为掺杂剂,在玻璃表面镀制TiO2/SnO2:F多功能复合薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电镜和紫外-可见-近红外透射光谱等对单层TiO2薄膜和TiO2/SnO2:F复合薄膜的物相及性能进行表征分析。结果表明:单层的TiO2薄膜具有阻隔紫外和近红外的功能,随着膜层厚度的增大,近红外的反射率逐渐提高,此时TiO2薄膜表现为非晶态;对于TiO2/SnO2:F复合薄膜,综合性能表现最好,不但可以改善阻隔紫外线的性能,其紫外阻隔率从51%增加到78%,而且在中远红外区具有较高的反射率,能够达到82%以上。同时在近红外区还能够保持30%以上的反射率,最大值能达到45%左右。另外,由于其还具有一定的导电性,可以赋予镀膜玻璃防静电的功能,这对玻璃防尘具有重要意义。