赵培教授团队:紧焦化学气相沉积技术,开启薄膜材料创新之门

赵培,教授,博士生导师,楚天学子/工大学者特聘教授、“湖北省杰出青年科学基金”及“武汉市青年科技晨光计划”人才基金项目获得者;2021年被评为武汉工程大学材料学科带头人;主要从事化学气相沉积法制备各种结构及功能薄膜/涂层的技术和设备开发研究。

电子束物理气相沉积技术及其应用现状

介绍了电子束物理气相沉积设备的结构、工艺特点及应用范围 ,并在此基础上介绍了电子束物理气相沉积技术在制备热障涂层。

气相沉积技术制备6.5wt%Si高硅钢的研究进展

综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积技术制备高硅钢的工艺和路线,并对其前景进行了展望。

气相沉积技术

随者微电子、宇航、超导、激光、核能、传感技术及太阳能利用等现代科学技术的发展和工业自动化的需要，材料的表面改性技术发展很快。气相沉积则是其中发展最快的技术之一。它适合于制备超硬、耐蚀、抗氧化、超导、光敏、热敏、磁记录、信息存储，光电转换、太阳能吸收等备种功能。性涂层，也可用于备种装饰涂层。

太阳能光伏电池及其气相沉积技术研究进展

对太阳能光伏电池的发展现状进行了综述,重点论述了气相沉积技术及其在非晶硅、CIGS等薄膜太阳电池薄膜制备中的应用,并对气相沉积技术及太阳能光伏电池的发展前景进行了展望。

化学气相沉积技术在工模具中的应用

化学气相沉积 (CVD)技术是近年来国际上发展和应用较广的一项先进技术。CVD法可在硬质合金和工模具钢的基体表面上形成由碳化物、氮化物、氧化物等构成的 ,具有冶金结合的耐磨耐蚀涂层 ,显著提高工模具的使用寿命。

脉冲激光气相沉积技术现状与进展

介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况。大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一。

表面工程应用实例 [例25] 4G阴极电弧气相沉积技术在刀具涂层上的应用

物理气相沉积（PVD）是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD制备的薄膜具有硬度高、摩擦因数低、耐磨性和化学稳定性好、处理工艺温度低等优点，适于硬质合金精密复杂刀具的表面强化。

北京：电子束物理气相沉积技术EB-PVD工程化迈上新台阶

最近，北京航空制造工程研究所成功应用电子束物理气相沉积技术EB—PVD修复了某零件的损伤以及薄壁形状复杂零件的成型3mm×2mm的沟槽表面制备0.8mm厚的结构层，这标志着我国电子束物理气相沉积技术EB－PVD工程化迈上新台阶。

应用材料为先进微芯片设计提供突破性的流体化学气相沉积技术

美国应用材料公司宣布了其突破性的Applied Producer Eterna FCVD（流体化学气相沉积）系统。这是首创的也是唯一的以高质量介电薄膜隔离20纳米及以下存储器和逻辑器件中的高密度晶体管的薄膜沉积技术。

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。

利用金属有机化学气相沉积技术生长出六角形InN纳米花

中科院半导体所材料科学重点实验室朱勤生和刘祥林等，通过引入氢气，利用金属有机化学气相沉积技术，成功在蓝宝石（0001）表面生长出具有六角形花样的InN（氮化铟）纳米花。其中引入氢的作用是，氢可还原InN生成金属In，而金属In可以催化InN纳米结构的生长。因此，虽然氢气可以阻止InN的生成，但通过精确控制氢气的引入，可以生长出具有新颖纳米结构的InN，这可以避免因使用其它催化剂而导致的杂质的掺入。

电子束物理气相沉积热障涂层寿命预测模型

为了准确预测热障涂层(TBCs)的剥落寿命,把涂层使用过程中所存在的潜在危险减到最低,建立精确的热障涂层寿命预测模型具有十分重要意义。本文介绍了一种电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备的热障涂层的寿命预测模型。该模型是通过对EB-PVD热障涂层陶瓷的物理和力学性能、结合强度的测定,热生长氧化层(TGO)生长动力学的研究以及热循环剥落寿命数据的定量研究而建立的一个TBCs系统的非线性寿命预测模型。从涂层实际寿命与模型预测寿命对比发现,该模型预测的涂层寿命与涂层的实际寿命相吻合。

气相沉积高纯铬钢领的研究开发

针对国产钢领不耐磨、寿命短,不能适应20 kr/min以上高速现状,在研究国外名牌钢领的基础上,研制开发了超高硬度的气相沉积高纯铬钢领,试验指出高含铬、高硬度钢领可适应高速纺纱,寿命达5 a以上。

冶金设备用铜及其合金表面处理技术的发展现状

目前,表面技术在冶金设备上的应用已有较大量尝试,铜及铜合金的表面处理技术研究报道也较多,但系统梳理铜合金关键冶金部件失效形式和铜合金的表面处理技术研究现状的相关报道还较少.本文综述了连铸结晶器、高炉风口小套、转炉氧枪头三种关键冶金部件面临的表面失效形式以及电镀、热喷涂与冷喷涂、表面熔覆、激光处理和合金共渗等几种表面处理技术在铜合金表面改性领域的研究发展现状,对比分析了几种表面处理技术的优缺点,并对高熵合金材料在铜合金表面强化领域的应用潜力进行了展望.开发新的涂层材料、优化镀膜工艺以及复合表面处理技术,如将激光表面处理与表面涂层技术复合,是实现表面处理技术在冶金设备用铜合金部件长寿化领域应用的可能方向.

一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法

本发明公开了一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法,属材料技术领域。本发明采用化学气相沉积技术,以聚对二甲苯为前驱体,以向列型液晶为模板,通过气相沉积聚合反应成功制备了聚对二甲苯纳米纤维,该制备方法具有纤维自身的尺寸、形貌、组成可控的特点,避免了传统静电纺丝法制备纤维存在溶剂后处理问题,环境污染严重等缺点,所得可应用于药物释放体系、组织工程、微流体装置等,具有很高的应用价值。

原子层沉积技术发展现状

复杂的非平面结构基板形貌对传统的薄膜沉积技术产生了极大的挑战,不同类型的集成电路器件需要不同的生产技术,同时也对薄膜材料提出了不同的要求。为了突破现有材料的性能限制就要求开发具有更高性能的材料。原子层沉积(ALD)是一种可足以应对这些挑战的独特技术,它所沉积的薄膜具有极佳的均匀性、台阶覆盖率和(对薄膜图形的)保形性。介绍了原子层沉积技术原理、新一代逻辑组件所面临的课题、原子气相沉积技术AVD及原子层沉积设备现状。

金属陶瓷复合涂层技术

金属陶瓷复合涂层技术是优越的现代材料表面处理技术和材料复合技术。对各种金属陶瓷复合涂层技术的主要内容、发展概况和技术特点进行了综述 。