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催化剂气相硫化研究及其化工工程问题讨论
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作者 陈松 阳永荣 +1 位作者 刘方 王靖岱 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期824-826,共3页
以石油化工过程使用的加氢催化剂为对象,采用XRD,TG,TPR,SEM等分析手段对固体催化剂气相硫化和钝化进行了研究,同时对气相硫化工艺所涉及的化工工程问题进行了分析,以从化学反应工程角度来实现工业催化剂的硫化.
关键词 催化剂 气相硫化 钝化 化工工程 反应器
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加氢催化剂的器外预硫化技术研究 被引量:9
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作者 刘方 阳永荣 陈松 《工业催化》 CAS 2005年第2期19-23,共5页
加氢催化剂硫化的预处理过程是决定催化剂活性和选择性的重要环节。采用气相硫化技术在小型固定床流化反应器上对加氢催化剂进行器外预硫化的研究,通过N2吸附、TEM、TG DTA、XRD和H2 TPR等技术对处理后的催化剂进行表征。结果表明,不同... 加氢催化剂硫化的预处理过程是决定催化剂活性和选择性的重要环节。采用气相硫化技术在小型固定床流化反应器上对加氢催化剂进行器外预硫化的研究,通过N2吸附、TEM、TG DTA、XRD和H2 TPR等技术对处理后的催化剂进行表征。结果表明,不同的硫化方法对催化剂中硫的质量分数和活性均有很大影响。预硫化后的催化剂中硫的质量分数高,活性好。 展开更多
关键词 加氢催化剂 器外预硫化 气相硫化 硫化
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自硫化型耐硫变换催化剂的性能及结构表征 被引量:1
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作者 薛经纬 王龙江 +1 位作者 于元章 高步良 《青岛科技大学学报(自然科学版)》 CAS 2011年第4期351-355,共5页
加氢催化剂的硫化预处理过程是决定催化剂活性和选择性的重要环节。在耐硫变换催化剂上负载固体硫化物,采用气相自硫化技术对耐硫变换催化剂进行预硫化。通过高压微反实验装置评价表明,其活性明显高于CS2硫化的催化剂。采用BET、SEM和XR... 加氢催化剂的硫化预处理过程是决定催化剂活性和选择性的重要环节。在耐硫变换催化剂上负载固体硫化物,采用气相自硫化技术对耐硫变换催化剂进行预硫化。通过高压微反实验装置评价表明,其活性明显高于CS2硫化的催化剂。采用BET、SEM和XRD等方法对硫化后催化剂的微观结构进行表征的结果表明,新型自硫化工艺形成的催化剂粒子分布比CS2硫化法形成的催化剂均匀,在表面上没有积碳形成。硫化前后比表面积、孔容、平均孔径和孔分布基本保持不变。该技术与传统器内预硫化工艺相比预硫化时间短,易于控制。 展开更多
关键词 耐硫变换催化剂 硫化 器外预硫化
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一种加氢催化剂的预硫化方法
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《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期733-733,共1页
关键词 加氢催化剂 硫化方法 硫化 器外预硫化
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Identification and Characterization of Sulfur Compounds in Straight-Run Diesel Using Comprehensive Two-Dimensional GC Coupled with TOF MS 被引量:10
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作者 Niu Luna Liu Zelong Tian Songbai 《China Petroleum Processing & Petrochemical Technology》 SCIE CAS 2014年第3期10-18,共9页
The solid-phase extraction using Pd-Al2O3 as the stationary phase was employed to pre-separate the sulfur compounds in straight-run diesel. The isolating effect was evaluated quantitatively by gas chromatography with ... The solid-phase extraction using Pd-Al2O3 as the stationary phase was employed to pre-separate the sulfur compounds in straight-run diesel. The isolating effect was evaluated quantitatively by gas chromatography with a sulfur chemiluminescence detector to harvest a satisfactory result. The identification of the structure of sulfur compounds by comprehensive two-dimensional gas chromatography coupled with the time-of-flight mass spectrometry indicated that cyclo-sulfides, benzothiophenes, dibenzothiophenes, dihydro-benzothiophenes and tetrahydro-dibenzothiophenes were included in straightrun diesel obtained from the Arab medium crude(AM). A total of 259 individual compounds were detected and their molecular structures were identified. The analytical method was approved as an effective way to characterize the composition of sulfur compounds, which reduced the interference of other compounds, facilitated the data presentation and provided more detailed information about molecular composition of sulfur compounds. 展开更多
关键词 sulfur compounds straight-run diesel solid-phase extraction (SPE) comprehensive two-dimensional gas chromatographycoupled with the time-of-flight mass spectrometry (GC×GC-TOF MS)
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沉积温度、压力对CVDZnS晶粒尺寸及性能的影响 被引量:2
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作者 魏乃光 郭立 +8 位作者 杨海 刘晓华 田智瑞 黎建明 李冬旭 蒋立朋 李文江 赵永田 杨建纯 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期925-930,共6页
通过控制H2S流量(2±1)L/min、氩气流量(35±2)L/min,在不同沉积温度[(650±10)、(670±10)、(700±10)℃]、不同沉积压力[(5000±200)、(7000±200)、(9000±200)Pa]工艺条件下采用化学气相沉积法制... 通过控制H2S流量(2±1)L/min、氩气流量(35±2)L/min,在不同沉积温度[(650±10)、(670±10)、(700±10)℃]、不同沉积压力[(5000±200)、(7000±200)、(9000±200)Pa]工艺条件下采用化学气相沉积法制备出原生ZnS(CVDZnS)样品。利用X射线衍射、金相显微镜、Spectrμm100 Fourier红外变换光谱仪对CVDZnS样品分别进行了物相分析、微观晶粒形貌观察以及2~15μm波段的红外透过率测试。结果表明:CVDZnS主要以立方相形式存在,有少量六方相,沉积生长的优先取向为s(111);金相分析表明在沉积压力为(5000±200)和(7000±200)Pa时,随着温度的升高平均晶粒尺寸有增大趋势,最大平均纵向晶粒尺寸值为15.5μm。平均纵向晶粒尺寸和平均横向晶粒尺寸的比值越接近"1",对于提高材料弯曲强度越有利。确定了在沉积温度为(670±10)℃、沉积压力为(7000±200)Pa工艺条件下,制备的CVDZnS可以有效提高2~5、7~10μm的平均透过率(~72.15%),降低6.0μm左右的吸收。 展开更多
关键词 化学沉积硫化 沉积温度 沉积压力 光学性能 力学性能
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Recent progress in atomic layer deposition of molybdenum disulfide:a mini review 被引量:3
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作者 Yazhou Huang Lei Liu 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2019年第7期913-924,共12页
As a kind of specially modified chemical vapor deposition (CVD), atom ic layer deposition (ALD) has long been used to fabricate thin films. The self-limiting reaction of ALD endows the films with excellent uniformity ... As a kind of specially modified chemical vapor deposition (CVD), atom ic layer deposition (ALD) has long been used to fabricate thin films. The self-limiting reaction of ALD endows the films with excellent uniformity and precise controllability. The thickness o f the tilms obtained by ALD can be controlled in an atom ic scale (0.1 nm) on a large-area substrate even with complex structures. Therefore, it has recently been employed to produce the two-dimensional (2D) materials like MoS2. In this mini-review, the research progress in ALD MoS2 is firstly summarized. Then the influences of precursors, substrates, temperature, and post-annealing treatm ent on the quality of ALD-MoS2 are presented. Moreover, the applications of the obtained MoS2 as an electrochemical catalysator are also described. Besides the perspective on the research of ALD of MoS2, the remaining challenges and promising potentials are also pointed out. 展开更多
关键词 MOS2 chemical vapor deposition (CVD) atomiclayer deposition (ALD) two-dimensional (2D) materials
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