氖原子束计算全息编码成像模拟研究

将计算全息技术、原子光学及微细加工技术相结合,得出一种氖原子束计算全息编码成像技术,它弥补了利用激光梯度场控制原子堆积只能制作单一量子点、线等周期性图形的不足。对该技术进行了模拟研究,结果表明,可以制作所需的任意超微细结构图形,特征线宽可达纳米量级。

亚稳态氖原子光刻的实验研究

用亚稳态氖原子束进行了原子光刻实验。用栅网作掩膜 ,以扩散泵油的有机分子在高能亚稳态氖原子作用下所生成的碳膜作抗蚀剂 ,在硅片上刻蚀出分辨率为 2 μm的微结构 ,为进一步的纳米级原子光刻技术的研究打下了基础。