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氟化氩浸渍光刻法用石英光掩膜基板
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《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2004年第10期69-70,共2页
日本旭硝子公司(Asahi Glass)已生产出氟化氩(ArF)激光分档器浸渍光刻法用的合成石英光掩膜基板。这一技术突破归功于该公司为将合成石英的双折射率降低至1nm以下而开发的技术。
关键词 日本旭硝子公司 氟化氩浸渍光刻法 石英光掩膜基板 生产能力 半导体光刻法 分档器透镜
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