氟化物材料改善硼粒子燃烧效率在含能材料领域中的研究进展

针对硼粒子受热后表面产生粘稠态氧化膜,其包裹在硼粒子表面并引起硼粒子燃烧效率低、放热量下降、不能充分释放硼粒子氧化高能量的问题。通过梳理国内外研究学者利用氟化物材料作为包覆材料与添加剂,以及其他添加剂来改善硼粒子燃烧问题的研究进展。探讨不同氟化物材料如BiF_(3)、COF_(2)、四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的聚合物(THV)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚四氟乙烯(PTFE)等,以及其他添加剂改善硼粒子燃烧缺点的效果和方法,并对深入研究氟化物材料改善硼粒子燃烧缺点的研究方向提出了展望。

氟化物材料在深紫外波段的光学常数

研究了紫外领域常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料,在氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6;用商用lambda900光谱仪测量了它们在190—500 nm范围的透射率光谱曲线;用包络法研究了它们的折射率和消光系数,研究了影响透射率和光学常数的主要因素,给出了6种氟化物材料的光学常数公式和光谱色散曲线,为紫外技术与应用研究提供了参考.

几种氟化物薄膜材料的光学特性

为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底温度镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120～300nm的透射光谱曲线,用商用lambda900光谱仪测量了它们190～500nm的透射光谱曲线,两者相结合标定了透射率的准确值。用包络法和模拟退火相结合研究了它们在120～500nm的折射率和消光系数,给出了6种氟化物材料的光谱色散曲线。结果显示,3种高折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.77～1.89,而3种低折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.44～1.48;研究表明,选用折射率相差较大的高、低折射率氟化物薄膜,可在膜系设计中组成高低折射率材料对,用于设计各种实用的薄膜器件。

Mn^4+掺杂氟化物红光材料的研究与展望

Mn 4+掺杂的氟化物材料因其高效的窄带红光发射和宽带蓝光激发特性在改善白光LED显色性能和提高LCD背光源色域等领域展现出巨大的应用前景。本文主要介绍目前国内外关于Mn 4+掺杂氟化物红光材料的主要制备方法和耐湿性能的有效改善途径,并从拓展应用的角度对材料微观形貌调控问题做出展望,为深入开展多类型光电子器件应用研究提供借鉴基础。

157nm氟化物光学薄膜制备

为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性.结果表明,采用NdF3/AlF3材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1.7%,反射率接近93%,散射损耗为2.46%,已经与吸收损耗相当;以AlF3/LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余反射率低于0.17%.

氟化物玻璃材料研究及应用近况

新型材料的研究和开发，直接影响着科学技术的发展，人们把材料与能源、信息并列为现代技术革命的三大支柱．红外玻璃以其独特的性质，广泛应用于光纤通信、红外传感、激光技术等领域中。