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氢氟酸(HF)灼伤致死1例报告 被引量:1
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作者 刘亦峰 黄金华 +3 位作者 周荣芳 刘森 徐刚 周杰 《海峡药学》 2014年第12期264-265,共2页
氢氟酸( HF)接触并损伤皮肤不同于硫酸、硝酸和盐酸等,浓度不同的HF即便是小面积,也可以引起严重皮肤及深部组织损害、低血钙及全身中毒症状,甚至死亡。我科每年救治HF灼伤患者30余例(含门诊病例),经积极处理,大都取得满意效果... 氢氟酸( HF)接触并损伤皮肤不同于硫酸、硝酸和盐酸等,浓度不同的HF即便是小面积,也可以引起严重皮肤及深部组织损害、低血钙及全身中毒症状,甚至死亡。我科每年救治HF灼伤患者30余例(含门诊病例),经积极处理,大都取得满意效果,3年前1例左上下肢15%三度HF烧伤患者,在伤后4h并伴昏迷入院,入院24h经积极抢救最终无效死亡。 展开更多
关键词 氢氟酸(hf) 烧伤
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氢氟酸酸蚀形成的两种不同微/纳米表面对骨髓间充质干细胞生物活性的影响 被引量:1
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作者 申明明 李艳荣 +4 位作者 齐亚平 付亁 秦东泽 梁建飞 赵云转 《牙体牙髓牙周病学杂志》 CAS 2015年第8期472-476,500,共6页
目的:评价纯钛样品经12.5 g/L氢氟酸(HF)酸蚀处理不同时间后形成的两种不同表面对骨髓间充质干细胞(BMMSCs)生物活性的影响。方法:将纯钛钛片平均分为3组:A组抛光处理;B组12.5 g/L HF酸蚀1 min;C组12.5 g/L HF酸蚀15 min。X射线能谱仪分... 目的:评价纯钛样品经12.5 g/L氢氟酸(HF)酸蚀处理不同时间后形成的两种不同表面对骨髓间充质干细胞(BMMSCs)生物活性的影响。方法:将纯钛钛片平均分为3组:A组抛光处理;B组12.5 g/L HF酸蚀1 min;C组12.5 g/L HF酸蚀15 min。X射线能谱仪分析(EDS)其表面化学成分;亲水性试验测量样品表面的接触角;激光共聚焦显微镜计数评价BMMSCs在样品表面的早期黏附;SEM观察观察样品表面形貌及黏附的细胞形态;MTT法检测细胞活性;碱性磷酸酶(ALP)试剂盒测定ALP活性。结果:酸蚀后的两组样品都可形成微/纳米级表面形貌且载入氟元素;酸蚀后的表面接触角明显小于抛光组,且C组小于B组;酸蚀后的纯钛样品表面能够促进BMMSCs的黏附、增殖和ALP活性,且C组优于B组。结论:HF酸蚀使纯钛表面构建了不同结构的微/纳米形貌,载入了氟元素,可促进BMMSCs在纯钛表面的生物活性。 展开更多
关键词 氢氟酸(hf) 酸蚀 微/纳米 表面处理 生物活性
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用氢氟酸反萃P204负载的Fe3+及含F-反萃液处理的方法 被引量:2
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作者 彭学斌 田林 +4 位作者 杨振 李小英 翟忠标 谢刚 戴永年 《云南冶金》 2020年第1期40-45,共6页
研究了采用氢氟酸反萃P204萃取剂中负载的Fe3+。在反萃过程中考察了不同浓度氢氟酸对P204萃取剂中负载的铁反萃取脱除情况,并与镍、钴生产企业传统采用的6M HCl反萃除铁进行了试验对比。考察了含Fe3+、F-废水经石灰中和处理后返回循环... 研究了采用氢氟酸反萃P204萃取剂中负载的Fe3+。在反萃过程中考察了不同浓度氢氟酸对P204萃取剂中负载的铁反萃取脱除情况,并与镍、钴生产企业传统采用的6M HCl反萃除铁进行了试验对比。考察了含Fe3+、F-废水经石灰中和处理后返回循环利用的情况。 展开更多
关键词 萃取 P204萃取剂 FE3+ 氢氟酸(hf) 反萃取铁 反萃液循环利用
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磁流变抛光对熔石英激光损伤特性的影响 被引量:9
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作者 石峰 万稳 +1 位作者 戴一帆 彭小强 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2931-2937,共7页
为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值,研究了氢氟酸(HF)动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先,采用不同工艺制备熔石英元件,测量它们的表面粗糙度。然后,采用飞行时间-二次离子质谱法(OF-SIMS)检... 为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值,研究了氢氟酸(HF)动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先,采用不同工艺制备熔石英元件,测量它们的表面粗糙度。然后,采用飞行时间-二次离子质谱法(OF-SIMS)检测磁流变加工前后熔石英元件中金属杂质元素的含量和深度;采用1-on-1方法测试激光损伤阈值,观测损伤形貌,并对损伤坑的形态进行统计。最后,分析了磁流变抛光工艺提升熔石英损伤阈值的原因。与未经磁流变处理的熔石英元件进行了对比,结果显示:磁流变抛光使熔石英元件的零概率激光损伤阈值提升了23.3%,金属杂质元素含量也显著降低,尤其是对熔石英激光损伤特性有重要影响的Ce元素被完全消除。得到的结果表明,磁流变抛光工艺能够被用作HF酸动态酸刻蚀的前道处理工艺。 展开更多
关键词 磁流变抛光 熔石英 光学元件 氢氟酸(hf)动态刻蚀 激光损伤阈值
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含氟体系多级孔CoAPO-5分子筛的合成及其脱硫性能 被引量:2
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作者 赵祥祥 王俊 +2 位作者 孙雪妮 韶晖 黄春香 《石油学报(石油加工)》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期262-268,共7页
合成了含氟体系多级孔CoAPO-5分子筛,考察了HF用量对合成多级孔CoAPO-5分子筛结晶效果、晶形、酸量等的影响。通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、N2吸附-脱附等手段对合成产物进行表征,并将合成的多级孔CoAPO-5分子筛作为催化剂用于... 合成了含氟体系多级孔CoAPO-5分子筛,考察了HF用量对合成多级孔CoAPO-5分子筛结晶效果、晶形、酸量等的影响。通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、N2吸附-脱附等手段对合成产物进行表征,并将合成的多级孔CoAPO-5分子筛作为催化剂用于苯并噻吩氧化脱硫反应。结果表明,分子筛合成液中n(HF)/n(Al_(2)O_(3))=0.4条件下所合成的多级孔CoAPO-5分子筛结晶度高,呈棱柱状结构,分子筛具有介孔孔道,孔径约为3.63 nm。当过氧化氢、乙腈和模拟油的体积比为0.08∶1.6∶1、催化剂与模拟油的质量比为0.01、反应温度为35℃、反应时间为45 min时,以多级孔CoAPO-5分子筛为催化剂,苯并噻吩的脱硫率达到80%。 展开更多
关键词 多级孔CoAPO-5分子筛 氢氟酸(hf) 催化氧化 脱硫
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隔离扩散“染色”现象的研究
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作者 潘廷龙 倪国志 《集成电路通讯》 2010年第2期15-17,共3页
在双极型集成电路的隔离扩散时,发现隔离槽内产生一种“咖啡色的染色”现象,针对这一现象开展了实验研究,对产生“染色”的机理进行了探讨并提出解决“染色”的工艺方法。
关键词 双极型集成电路 隔离扩散 染色 氮化硼 氢氟酸(hf)
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