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非晶硅薄膜沉积工艺中氢注入步骤对硅片少子寿命的影响
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作者 许烁烁 张威 +2 位作者 彭宜昌 吴易龙 徐伟 《中文科技期刊数据库(全文版)工程技术》 2023年第3期38-41,共4页
异质结(HJT)电池制备流程中,核心工艺是本征非晶硅(a-Si:H(i))薄膜和掺杂微晶硅(μc-Si:H)薄膜的沉积。本文研究了在a-Si:H(i)薄膜沉积过程中,氢注入步骤对硅片少子寿命和电池转换效率的影响。研究了a-Si:H(i)工艺流程、氢注入时的射频... 异质结(HJT)电池制备流程中,核心工艺是本征非晶硅(a-Si:H(i))薄膜和掺杂微晶硅(μc-Si:H)薄膜的沉积。本文研究了在a-Si:H(i)薄膜沉积过程中,氢注入步骤对硅片少子寿命和电池转换效率的影响。研究了a-Si:H(i)工艺流程、氢注入时的射频功率、氢气流量、工艺压力对硅片少子寿命、电池转换效率的影响,得到了最佳工艺参数:采用I1/I2/氢注入的工艺流程,氢注入时电源功率1200W,氢气流量9000sccm,工艺压力200Pa。在该工艺条件下,在硅片两面沉积a-Si:H(i)薄膜后,硅片平均少子寿命达到5632μs。制备的HJT电池,转换效率达24.64%。 展开更多
关键词 异质结太阳电池 本征非晶硅 氢注入
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氢注入在硅异质结太阳电池a-Si:H窗口层中的研究 被引量:1
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作者 陈仁芳 张丽平 +3 位作者 吴卓鹏 李振飞 孟凡英 刘正新 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期103-108,共6页
基于热丝化学气相沉积(Cat-CVD)系统开展氢注入对超薄(<10 nm)氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜特性改善的研究,发现适当的氢注入可提高薄膜内的氢含量、降低其微结构因子并展宽其光学带隙。将该方法用于处理硅异质结(SHJ)太阳电池入光侧的本... 基于热丝化学气相沉积(Cat-CVD)系统开展氢注入对超薄(<10 nm)氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜特性改善的研究,发现适当的氢注入可提高薄膜内的氢含量、降低其微结构因子并展宽其光学带隙。将该方法用于处理硅异质结(SHJ)太阳电池入光侧的本征非晶硅(i-a-Si:H)及N型非晶硅(n-a-Si:H)薄膜钝化层,可显著提升晶体硅的表面钝化质量。通过使用AFORSHET软件模拟SHJ太阳电池入光面的界面缺陷及n-a-Si:H体缺陷对电池性能的影响,分析得到:将氢注入用于处理a-Si:H窗口层,SHJ太阳电池性能的提升源于电池入光侧界面及a-Si:H体材料的结构改善。电池的开路电压(Voc,728.4~736.1 mV)、短路电流密度(Jsc,37.99~38.20 mA/cm2)、填充因子(FF,79.67%~81.07%)及转换效率(Eff,22.04%~22.79%)均得到明显提升。 展开更多
关键词 氢注入 硅异质结太阳电池 非晶硅薄膜 钝化 缺陷态
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氢注入和退火处理导致硅的可见发光
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作者 田明 《发光快报》 CSCD 1994年第6期26-28,共3页
关键词 可见发光 氢注入 退火 发光
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氢丸烧蚀模型与实验的比较
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作者 Couge,MJ 肖晓 《国外核聚变与等离子体应用》 1992年第1期14-21,共8页
关键词 弹丸烧蚀 加料 注入 弹丸注入
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Effect of heat treatment on surface composition of hydrogen implanted C-SiC coatings
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作者 杜纪富 胡永红 +3 位作者 董珍 张光学 李月生 赵龙 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第11期3300-3305,共6页
C-SiC coatings were prepared on stainless steel substrate by the middle frequency magnetron sputtering (MFMS) and ion beam mixing technique. After deposition, these samples were implanted by 5 keV hydrogen ion beam ... C-SiC coatings were prepared on stainless steel substrate by the middle frequency magnetron sputtering (MFMS) and ion beam mixing technique. After deposition, these samples were implanted by 5 keV hydrogen ion beam at a dose of 1×1018 ion/cm2. Some samples were heat treated at different temperatures from 273 K to 1173 K separately. The surface morphology, surface concentration of the elements of the C-SiC coatings and element iron from substrate as well as their depth profiles were checked with SEM, XPS and SIMS analyses. The results show that the composition of the coatings is changed due to heat treatment at different temperatures. The C-50%SiC coating with an excellent hydrogen resistant property can act as hydrogen barrier at the temperature below 723 K. But the hydrogen resistant property of the coating becomes bad when it is used at the temperature of 1023 K. 展开更多
关键词 C-SiC coating hydrogen implantation heat treatment
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氢氧复合注入对SOI-SIMOX埋层结构影响的研究
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作者 易万兵 陈猛 +3 位作者 陈静 王湘 刘相华 王曦 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第1期17-20,共4页
实验研究了氢、氧复合注入对注氧隔离技术制备SOI(SiliconOnInsulator)材料埋层结构的影响。用截面透射电子显微镜和二次离子质谱技术分析了退火前后材料的微结构变化。研究表明,氢离子的注入有利于注氧隔离制备的SOI材料埋层的增宽。... 实验研究了氢、氧复合注入对注氧隔离技术制备SOI(SiliconOnInsulator)材料埋层结构的影响。用截面透射电子显微镜和二次离子质谱技术分析了退火前后材料的微结构变化。研究表明,氢离子的注入有利于注氧隔离制备的SOI材料埋层的增宽。进一步的结果表明,室温氢离子注入导致的增宽效应比高温注入明显。 展开更多
关键词 注氧隔离 、氧复合注入 埋层增宽
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Proton irradiation effects on HVPE GaN 被引量:2
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作者 LU Ling HAO Yue +5 位作者 ZHENG XueFeng ZHANG JinCheng XU ShengRui LIN ZhiYu AI Shan MENG FanNa 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2012年第9期2432-2435,共4页
GaNs grown by hydride vapor phase epitaxy(HVPE) were irradiated by protons with different fluences.The changes of surface topography of as-grown and irradiated samples were characterized by atomic force microscopy(AFM... GaNs grown by hydride vapor phase epitaxy(HVPE) were irradiated by protons with different fluences.The changes of surface topography of as-grown and irradiated samples were characterized by atomic force microscopy(AFM).The crystal quality and optical properties of GaN films were examined by the variations of the micro-Raman and photoluminescence(PL) spectra with proton fluence.It was observed that the surface became a little more rough after irradiation.The Raman spectra indicated that the strain of materials and carrier concentration were not affected by the proton injection.The full-width at half-maximum(FWHM) of E 2 high phonon mode narrowed,which was consistent with the FWHM of PL near-band-edge emission(BE).The spectra of yellow luminescence and blue luminescence normalized to the intensity of BE demonstrated a little increase of Ga vacancy and a large decrease of O N,which may be the main reason for the change of optical properties. 展开更多
关键词 vproton irradiation AFM MICRO-RAMAN PHOTOLUMINESCENCE
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