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ZnO/SnO_2复合透明导电膜性能的研究
被引量:
3
1
作者
高哲
卢景霄
+3 位作者
陈庆东
刘玉芬
王子健
陈永生
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期417-421,共5页
采用直流磁控溅射工艺在SnO2透明导电玻璃上沉积一层ZnO膜,制备出ZnO/SnO2复合透明导电膜,作为硅薄膜太阳电池前电极。比较了具有不同ZnO厚度的复合膜氢轰击前后的光电性能,发现适当控制ZnO膜的厚度至关重要。研究了快速热退火(RTA)对...
采用直流磁控溅射工艺在SnO2透明导电玻璃上沉积一层ZnO膜,制备出ZnO/SnO2复合透明导电膜,作为硅薄膜太阳电池前电极。比较了具有不同ZnO厚度的复合膜氢轰击前后的光电性能,发现适当控制ZnO膜的厚度至关重要。研究了快速热退火(RTA)对薄膜的结构及光电性能的影响,发现400℃退火能够改善薄膜的光学性能。
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关键词
ZnO/SnO2复合膜
快速热退火(RTA)
氢轰击
透过率
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职称材料
题名
ZnO/SnO_2复合透明导电膜性能的研究
被引量:
3
1
作者
高哲
卢景霄
陈庆东
刘玉芬
王子健
陈永生
机构
郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期417-421,共5页
基金
国家"973"重大基础研究发展规划项目(No.2006CB202601)
文摘
采用直流磁控溅射工艺在SnO2透明导电玻璃上沉积一层ZnO膜,制备出ZnO/SnO2复合透明导电膜,作为硅薄膜太阳电池前电极。比较了具有不同ZnO厚度的复合膜氢轰击前后的光电性能,发现适当控制ZnO膜的厚度至关重要。研究了快速热退火(RTA)对薄膜的结构及光电性能的影响,发现400℃退火能够改善薄膜的光学性能。
关键词
ZnO/SnO2复合膜
快速热退火(RTA)
氢轰击
透过率
Keywords
ZnO/SnO2 multiple films
rapid thermal annealing (RTA)
H bombardment
transmission
分类号
O484 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ZnO/SnO_2复合透明导电膜性能的研究
高哲
卢景霄
陈庆东
刘玉芬
王子健
陈永生
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
3
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职称材料
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