光纤光栅退火特性的研究

获得性能稳定的光纤光栅具有重要的意义 ,文章介绍了氢载光纤、B/Ge光纤两种光敏光纤的退火特性。经比较 。

载氢光纤在255．3nm激光辐照下的光折变效应

首次报道采用铜蒸气倍频２５５．３ｎｍ紫外激光辐照载氢光纤产生的光折变效应。

载氢光纤光折变的测量研究

报道了用光纤马赫－陈德尔干涉仪测量载氢通信光纤在１９３ｕｍＡｒＦ准分子紫外激光辐照下光致折射率变化的过程，为进一步制作光纤光栅器件和分析光折变机理提供了有用的实验数据。

相移光纤光栅退火前后的光谱分析

将相移光纤光栅等效为法布里珀罗腔，进行理论分析与仿真，研究了折射率调制深度和光纤有效折射率对相移光纤光栅光谱的影响。在此基础上，分析和研究了相移光纤光栅退火前后光谱的变化规律。结果显示，载氢光纤退火后，由于色芯结构的变化，会导致调制深度和有效折射率分别降低了10-5和10-4数量级。等效腔长增加5%左右，从而使得相移光纤光栅整个光谱和透射窗口往短波方向移动。通过对实验室刻写的相移光纤光栅退火前后的光谱进行拟合，发现实验结果与理论分析基本一致，这对相移光纤光栅的刻写和分布反馈激光器（DFB）的制作有一定的指导意义。

光致折变布拉格光栅实验研究

本文介绍了 2 48nm、Kr F准分子激光经过石英相位掩膜版的空间调制 ,在载氢增敏处理过的通信光纤与 B/Ge光纤上分别写入光致折变布拉格光栅的实验研究。经实验测定 ,在光栅布拉格波长上 (λH2 =15 46 .45 5 4nm ,λB/Ge=15 45 .15 5 nm) ,两种光栅反射率均大于 99% ,3d B带宽分别为 0 .12 9nm和 0 .182 nm。经比较 ,B/