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含氦纳米晶钛膜的PBS和XRD研究
被引量:
2
1
作者
庞洪超
罗顺忠
+9 位作者
龙兴贵
安竹
刘宁
段艳敏
吴兴春
彭述明
杨本福
王培禄
宋应民
郑思孝
《核技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期58-62,共5页
为研究不同晶粒尺寸纳米钛膜的储氦行为,在He-Ar混合气体下,用磁控溅射方法沉积纳米晶钛膜,利用PBS(proton backscattering)、XRD(X-ray diffraction)对膜的氦含量和微观结构及晶粒大小进行了研究。结果表明:在其它实验参数不变的情况下...
为研究不同晶粒尺寸纳米钛膜的储氦行为,在He-Ar混合气体下,用磁控溅射方法沉积纳米晶钛膜,利用PBS(proton backscattering)、XRD(X-ray diffraction)对膜的氦含量和微观结构及晶粒大小进行了研究。结果表明:在其它实验参数不变的情况下,当沉积温度从60℃升至350℃时得到均匀分布的含氦量(指原子百分比)从38.6%逐渐降至9.2%的钛膜,其平均晶粒由13.1nm增加到44.2nm;当He/Ar分压比分别为6、10、15、19时得到均匀分布的含氦量分别为17.6%、47.2%、48.3%和38.6%的钛膜。He的引入引起(002)晶面衍射峰向小角度移动,但(100)晶面衍射峰不变,即晶胞参数c增加,a不变化;随膜中He含量的增加,衍射峰展宽,晶粒变小,显示出氦的掺入有抑制纳米晶粒长大的趋势。
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关键词
磁控溅射
纳米晶
钛
膜
晶粒大小
氦
含量
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职称材料
磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备
2
作者
宋应民
罗顺忠
+8 位作者
龙兴贵
彭述明
安竹
刘宁
庞洪超
段艳敏
吴兴春
杨本福
郑思孝
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第6期644-647,共4页
采用直流磁控溅射方法,通过分别改变衬底温度及He分压来制备不同氦含量的钛膜。利用PBS、XRD、TEM及AFM分别对钛膜中的He含量、平均晶粒尺寸及膜的表面形貌进行分析。结果表明:在不同温度范围内,温度变化对所制备钛膜中He含量的影响明...
采用直流磁控溅射方法,通过分别改变衬底温度及He分压来制备不同氦含量的钛膜。利用PBS、XRD、TEM及AFM分别对钛膜中的He含量、平均晶粒尺寸及膜的表面形貌进行分析。结果表明:在不同温度范围内,温度变化对所制备钛膜中He含量的影响明显不同;He含量与晶粒尺寸直接相关,氦原子进入钛膜后,抑制了晶粒的长大;随着钛膜中He与Ti的原子个数比由1.0%增加到11.9%,TEM测得的平均晶粒尺寸由约35 nm减小到约4 nm;选择合适的He分压,能够制备出He含量较高的氦钛膜。
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关键词
磁控溅射
氦
含量
氦钛膜
平均晶粒尺寸
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职称材料
题名
含氦纳米晶钛膜的PBS和XRD研究
被引量:
2
1
作者
庞洪超
罗顺忠
龙兴贵
安竹
刘宁
段艳敏
吴兴春
彭述明
杨本福
王培禄
宋应民
郑思孝
机构
四川大学原子核科学技术研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
出处
《核技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期58-62,共5页
基金
中国工程物理研究院基金项目(200320501)资助
文摘
为研究不同晶粒尺寸纳米钛膜的储氦行为,在He-Ar混合气体下,用磁控溅射方法沉积纳米晶钛膜,利用PBS(proton backscattering)、XRD(X-ray diffraction)对膜的氦含量和微观结构及晶粒大小进行了研究。结果表明:在其它实验参数不变的情况下,当沉积温度从60℃升至350℃时得到均匀分布的含氦量(指原子百分比)从38.6%逐渐降至9.2%的钛膜,其平均晶粒由13.1nm增加到44.2nm;当He/Ar分压比分别为6、10、15、19时得到均匀分布的含氦量分别为17.6%、47.2%、48.3%和38.6%的钛膜。He的引入引起(002)晶面衍射峰向小角度移动,但(100)晶面衍射峰不变,即晶胞参数c增加,a不变化;随膜中He含量的增加,衍射峰展宽,晶粒变小,显示出氦的掺入有抑制纳米晶粒长大的趋势。
关键词
磁控溅射
纳米晶
钛
膜
晶粒大小
氦
含量
Keywords
Magnetron sputtering, Nanocrystalline titanium film, Grain size, Helium content
分类号
TB39 [一般工业技术—材料科学与工程]
TL99 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备
2
作者
宋应民
罗顺忠
龙兴贵
彭述明
安竹
刘宁
庞洪超
段艳敏
吴兴春
杨本福
郑思孝
机构
四川大学原子核科学技术研究所
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第6期644-647,共4页
基金
中国工程物理研究院科学技术重大基金项目子项目(2003Z0501)
文摘
采用直流磁控溅射方法,通过分别改变衬底温度及He分压来制备不同氦含量的钛膜。利用PBS、XRD、TEM及AFM分别对钛膜中的He含量、平均晶粒尺寸及膜的表面形貌进行分析。结果表明:在不同温度范围内,温度变化对所制备钛膜中He含量的影响明显不同;He含量与晶粒尺寸直接相关,氦原子进入钛膜后,抑制了晶粒的长大;随着钛膜中He与Ti的原子个数比由1.0%增加到11.9%,TEM测得的平均晶粒尺寸由约35 nm减小到约4 nm;选择合适的He分压,能够制备出He含量较高的氦钛膜。
关键词
磁控溅射
氦
含量
氦钛膜
平均晶粒尺寸
Keywords
magnetron sputtering
helium content
He-Ti film
average crystal size
分类号
O484.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
含氦纳米晶钛膜的PBS和XRD研究
庞洪超
罗顺忠
龙兴贵
安竹
刘宁
段艳敏
吴兴春
彭述明
杨本福
王培禄
宋应民
郑思孝
《核技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
2
下载PDF
职称材料
2
磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备
宋应民
罗顺忠
龙兴贵
彭述明
安竹
刘宁
庞洪超
段艳敏
吴兴春
杨本福
郑思孝
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
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职称材料
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