影响铝合金阳极氧化膜质量因素的研究

铝阳极氧化技术是目前比较常见的铝材表面处理技术,通过铝阳极氧化处理后铝材表面形成致密氧化铝薄膜,这层氧化铝薄膜性质稳定,具有较好的耐腐蚀、耐磨损特性,而且氧化铝薄膜光泽度也相对较好,因而处理形成的氧化铝薄膜对于铝材的装饰性能也有一定提升。铝合金材质目前应用广泛,该类材料具有重量轻、强度高、柔韧度好等诸多优势特性,在轻重工业发展方面具有重要意义。铝阳极氧化工艺种类繁杂,分类标准也比较多,但不论采用哪种铝阳极氧化工艺,其核心目标是在铝材表面形成高质量的氧化铝薄膜以满足铝材的未来使用需求,因此在研究过程中应重点分析铝阳极氧化处理中影响阳极氧化膜质量的相关因素。本文将通过对比实验分析的形式对多种不同铝阳极氧化工艺下形成的铝合金材料进行整体质量分析,并根据实验变量研究具体的质量影响因素。

铝件阳极氧化膜产生黑点是什么原因？

答：在用硫酸阳极氧化的电解液中某些杂质的存在对氧化膜质量影响很大。尤其是氯离子和硝酸根离子的影响更为严重，它们能在阳极（铝件）优先放电，破坏了氧化膜的正常生长。如Cl^-含量过高时，会使铝件产生穿透性腐蚀小孔，造成氧化膜形成大量的黑色斑点。

高硅铝合金活塞顶部硬质阳极氧化

结合硬质阳极氧化的工艺特点,对高硅铝合金活塞项部硬质阳极氧化的工艺、绝缘保护设施、操作等进行工艺试验,并对各种因素对氧化膜质量的影响作了一定的探讨。

气相扩镓的杂质Rs效应分析

在确定的开管扩镓装置中，以氢气做为镓源Ｇａ＿２Ｏ＿３的反应和输运气体，凭借准确的控制扩散条件，镓在ＳｉＯ＿２／Ｓｉ系统中扩散，可获得良好的扩散均匀性和重复性。根据镓在Ｓｉ和ＳｉＯ＿２中扩散行为，分析讨论了镓在裸Ｓｉ系和ＳｉＯ＿２／Ｓｉ系扩散所产生的杂质Ｒ＿ｓ效应，及其氧化膜质量和厚度对Ｒ＿ｓ的影响。

从使用要求谈铝合金建筑型材标准及产品检验

铝合金建筑型材（以下简称铝型材）广泛应用于门窗、幕墙、吊顶等建筑装饰行业及其他行业，是建筑上常用的重要材料之一。对铝型材不仅要求其具有优良的材质性能（化学成分、力学性能等）和精确的尺寸，而且还应该具有优良的耐蚀、耐磨性能和美观、协调的表面及表面色泽，因此，铝型材的氧化膜质量（主要是氧化膜厚度和封孔质量、尺寸偏差）和力学性能是评价其质量优劣的两项最重要的技术质量指标。

用于铝阳极氧化膜的中温封闭剂及封闭工艺

工业生产中，为提高铝阳极氧化膜质量，需要对阳极氧化膜层进行封闭处理。铝阳极氧化膜最常采用的封闭方法是沸水封闭和醋酸镍封闭工艺。而这两种常用封闭工艺的弊端是氧化膜经封闭处理后，其表面容易产生令人厌恶的白色或灰色粉状物，业界称之为封闭“粉霜”或“封闭华”。研究表明，封闭处理液的多种杂质离子会促进“粉霜”的产生，其中Al^3＋等离子的存在作用最明显。

第三届国际表面工程会议在我校隆重召开

由中国机械工程学会表面工程分会和我校联合举办的第三届国际表面工程会议于2002年10月10日至13日在我校国际会议中心举行。来自我国、英国、美国、加拿大、日本、法国、德国、俄罗斯、波兰、瑞士、韩国等17个国家及地区的200余位专家、学者参加了会议,其中国外代表近50人。四川省副省长柯尊平博士、中国科学院和工程院院士沈志云教授、中国工程院徐滨士院士、中国工程院外籍院士T.Bell教授(英国伯明翰大学教授)、西南交通大学副校长黄庆教授等参加了开幕式。本次会议的主题是表面工程对先进制造和再制造业的贡献。围绕主题。

Microstructure and optical properties of TiO_2 thin films deposited at different oxygen flow rates

To research the influence of oxygen flow rate on the structural and optical properties of TiO2 thin film,TiO2 films on glass were deposited by reactive magnetron sputtering.The microstructure and optical properties were measured by X-ray diffractometry,AFM and UV-VIS transmittance spectroscopy,respectively.The results show that the films deposited at oxygen flow rate of 10 mL/min has the lowest roughness and the highest transmittance.The absorption angle shifts to longer wavelengths as oxygen flow rates increase from 5 to 10 mL/min,then to shorter ones as the oxygen flow rate increase from 10 to 30 mL/min.The band gap is 3.38 eV,which is nearly constant in the experiment.For the TiO2 thin films deposited at 10 mL/min of oxyge flow rate,there are nano-crystalline structures,which are suitable for anti-reflection(AR) coating in the solar cells structure system.