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连续激光照射下In_2O_3纳米微粒的光学限幅特性
1
作者
赵志国
马二红
张绍武
《河南科学》
2000年第4期358-361,共4页
随着现代科学技术的飞速发展 ,高灵敏快速响应探测器产生广泛应用 ,为了避免强光照射对这些精密仪器的损伤 ,光限幅器的需求也日渐迫切。本文用Z -扫描技术测量了表面修饰In2 O3 纳米微粒的有效非线性系数n2 和光学限幅特性曲线 ,发现...
随着现代科学技术的飞速发展 ,高灵敏快速响应探测器产生广泛应用 ,为了避免强光照射对这些精密仪器的损伤 ,光限幅器的需求也日渐迫切。本文用Z -扫描技术测量了表面修饰In2 O3 纳米微粒的有效非线性系数n2 和光学限幅特性曲线 ,发现在连续激光照射下In2 O3 纳米微粒呈现出较好的光限幅特性 ,光限幅阈值明显低于相应的体相材料。在不同入射功率作用下 。
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关键词
光限幅
Z-扫描技术
激光照射
氧化铟纳米微粒
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职称材料
题名
连续激光照射下In_2O_3纳米微粒的光学限幅特性
1
作者
赵志国
马二红
张绍武
机构
洛阳师范学院物理系
伊川县第二电厂
河南省科学院应用物理研究所
出处
《河南科学》
2000年第4期358-361,共4页
文摘
随着现代科学技术的飞速发展 ,高灵敏快速响应探测器产生广泛应用 ,为了避免强光照射对这些精密仪器的损伤 ,光限幅器的需求也日渐迫切。本文用Z -扫描技术测量了表面修饰In2 O3 纳米微粒的有效非线性系数n2 和光学限幅特性曲线 ,发现在连续激光照射下In2 O3 纳米微粒呈现出较好的光限幅特性 ,光限幅阈值明显低于相应的体相材料。在不同入射功率作用下 。
关键词
光限幅
Z-扫描技术
激光照射
氧化铟纳米微粒
Keywords
nanoparticles
optical limiting
Z-scaming technology
分类号
O437 [机械工程—光学工程]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
连续激光照射下In_2O_3纳米微粒的光学限幅特性
赵志国
马二红
张绍武
《河南科学》
2000
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