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屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响
1
作者
曹柱荣
杨正华
+3 位作者
白晓红
张海鹰
刘慎业
丁永坤
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期1251-1254,共4页
利用铝屏和氧化铟锡(ITO)屏两种结构的微通道板(MCP)成像器进行了放电实验,通过直流首击穿后器件的绝缘强度和电极熔蚀形貌变化,分析了屏电极结构对放电的影响。实验表明,铝屏MCP成像器首击穿后,铝膜电极出现如火山口状的熔蚀形貌,在10...
利用铝屏和氧化铟锡(ITO)屏两种结构的微通道板(MCP)成像器进行了放电实验,通过直流首击穿后器件的绝缘强度和电极熔蚀形貌变化,分析了屏电极结构对放电的影响。实验表明,铝屏MCP成像器首击穿后,铝膜电极出现如火山口状的熔蚀形貌,在10μs脉冲屏压下绝缘强度降低到3 kV/mm以下,绝缘强度与MCP无关。而ITO屏MCP成像器首击穿后,荧光质向MCP的质量迁移具有抑制阴极发射的作用,所以放电具有稳定的场发射特性,在10μs脉冲屏压下绝缘强度可达到9 kV/mm。分析表明,MCP成像器间隙放电的发展主要依赖于屏电极结构,ITO屏的电极结构有利于MCP成像器绝缘性能的提高。
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关键词
真空放电
微通道板成像器
铝屏
氧化铟锡屏
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职称材料
题名
屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响
1
作者
曹柱荣
杨正华
白晓红
张海鹰
刘慎业
丁永坤
机构
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
中国科学院西安光学精密机械研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期1251-1254,共4页
基金
国家高技术发展计划项目
文摘
利用铝屏和氧化铟锡(ITO)屏两种结构的微通道板(MCP)成像器进行了放电实验,通过直流首击穿后器件的绝缘强度和电极熔蚀形貌变化,分析了屏电极结构对放电的影响。实验表明,铝屏MCP成像器首击穿后,铝膜电极出现如火山口状的熔蚀形貌,在10μs脉冲屏压下绝缘强度降低到3 kV/mm以下,绝缘强度与MCP无关。而ITO屏MCP成像器首击穿后,荧光质向MCP的质量迁移具有抑制阴极发射的作用,所以放电具有稳定的场发射特性,在10μs脉冲屏压下绝缘强度可达到9 kV/mm。分析表明,MCP成像器间隙放电的发展主要依赖于屏电极结构,ITO屏的电极结构有利于MCP成像器绝缘性能的提高。
关键词
真空放电
微通道板成像器
铝屏
氧化铟锡屏
Keywords
vacuum discharge
micro-channel plate imagers
Al-screen
ITO-screen
分类号
TB43 [一般工业技术]
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
屏电极结构对微通道板成像器间隙放电的影响
曹柱荣
杨正华
白晓红
张海鹰
刘慎业
丁永坤
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
0
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