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利用钛保护层在ITO电极上直接制备大面积的超薄氧化铝膜(英文) 被引量:1
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作者 肖立新 段来强 +4 位作者 柴俊一 王芸 陈志坚 曲波 龚旗煌 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第3期749-753,共5页
通过磁控溅射并引入钛保护层,利用在0.3mol·L-1硫酸中20V电压下二次阳极氧化,在氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上直接制备了超薄(约140nm,为阳极氧化前Al厚度的一半)、大面积(约4cm2)的多孔阳极氧化铝(AAO).扫描电子显微镜结果表明生... 通过磁控溅射并引入钛保护层,利用在0.3mol·L-1硫酸中20V电压下二次阳极氧化,在氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上直接制备了超薄(约140nm,为阳极氧化前Al厚度的一半)、大面积(约4cm2)的多孔阳极氧化铝(AAO).扫描电子显微镜结果表明生成的微孔与衬底垂直,孔径和孔间距分别约为30和60nm.我们发现钛保护层的作用是提高了Al层的附着性并且防止ITO被腐蚀,在此体系中钛不能被其它的金属如铬、金、银或铜代替.紫外-可见光谱透过率结果显示在阳极氧化过程中Ti被氧化成为透明的TiO2,利用10-20nm的钛保护层以及二次阳极氧化过程,能够保证高透明度.在ITO上直接制备的这种透明、有序的AAO纳米结构在光子学、光伏领域和纳米制备等方面具有潜在应用. 展开更多
关键词 阳极氧化 薄膜 氧化铟锡透明电极 钛保护层 磁控射频溅射
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