表面氧化外延制备钇系涂层导体隔离层

采用表面氧化外延 (SOE)方法 ,在金属基底上研制NiO隔离层。通过研究温度、时间等工艺参数对形成立方织构NiO的影响 ,摸索出一套可获得单一、尖锐的立方织构NiO ,重复性好 ,适合于长带发展的工艺技术。同时研究了金属基带的表面状态、织构取向对NiO( 10 0 )表面的影响。X射线极图观测可直观地看到单一的立方织构 ,φ扫描检测其半高宽 (FWHM )均为 7.5°。扫描电镜观察NiO( 10 0 )膜层表面形貌 ,无裂纹且较为致密。