溅射羽辉与基底夹角对掺氧二硫化钼薄膜光学性质的影响

二硫化钼(MoS_(2))在环境中的热稳定性和化学稳定性好,迁移率相对较高,已应用于气体传感器、光电探测器和场效应管等器件的研制。采用氧气辅助技术生长的氧掺杂MoS_(2)(MoS_(2-x)O_(x))不仅可以调控MoS_(2)单晶尺寸,还能提高MoS_(2)单晶光致发光强度。本文采用射频反应磁控溅射技术、自然环境中氧化和热退火工艺,改变溅射羽辉与玻璃基底夹角来制备MoS_(2-x)O_(x)薄膜并研究其光学性质。采用X射线光电子能谱分析了样品的元素和价态;扫描电子显微镜观测的结果表明,溅射羽辉与基底成45°(θ=45°)时表面形貌为最优;紫外-可见分光光度计的测试结果表明,随着厚度和氧含量的增加,MoS_(2-x)O_(x)薄膜的光学带隙减小;采用COMSOL Multiphysics软件模拟了MoS_(2-x)O_(x)薄膜光学透过率,理论和实验结果相吻合。本文的研究结果将为MoS_(2-x)O_(x)薄膜在光学领域的应用提供科学参考。