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直拉型Si单晶中金属杂质对氧沉淀行为的影响
被引量:
1
1
作者
沈波
杨凯
+6 位作者
张序余
施洪涛
张荣
施毅
郑有炓
关口隆史
角野浩二
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第2期118-123,共6页
本文研究了直拉型Si单晶中Cu和Fe杂质对氧沉淀行为的影响.尽管Si晶体中Cu杂质的浓度远高于Fe杂质,但发现Cu对氧沉淀行为没有影响,而Fe会明显增强氧的沉淀速率.实验结果表明Cu在Si中形成低密度、大尺寸的沉淀物团簇,与Si晶体生长后...
本文研究了直拉型Si单晶中Cu和Fe杂质对氧沉淀行为的影响.尽管Si晶体中Cu杂质的浓度远高于Fe杂质,但发现Cu对氧沉淀行为没有影响,而Fe会明显增强氧的沉淀速率.实验结果表明Cu在Si中形成低密度、大尺寸的沉淀物团簇,与Si晶体生长后业已存在的微小氧沉淀物中的绝大多数没有相互作用;相反地,Fe杂质与微小氧沉淀物相互作用,形成高温下稳定的复合粒子,充当了氧沉淀的有效成核中心.
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关键词
硅
氧沉淀行为
单晶
金属杂质
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职称材料
题名
直拉型Si单晶中金属杂质对氧沉淀行为的影响
被引量:
1
1
作者
沈波
杨凯
张序余
施洪涛
张荣
施毅
郑有炓
关口隆史
角野浩二
机构
南京大学物理系固体物理研究所
东北大学金属材料研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第2期118-123,共6页
文摘
本文研究了直拉型Si单晶中Cu和Fe杂质对氧沉淀行为的影响.尽管Si晶体中Cu杂质的浓度远高于Fe杂质,但发现Cu对氧沉淀行为没有影响,而Fe会明显增强氧的沉淀速率.实验结果表明Cu在Si中形成低密度、大尺寸的沉淀物团簇,与Si晶体生长后业已存在的微小氧沉淀物中的绝大多数没有相互作用;相反地,Fe杂质与微小氧沉淀物相互作用,形成高温下稳定的复合粒子,充当了氧沉淀的有效成核中心.
关键词
硅
氧沉淀行为
单晶
金属杂质
Keywords
Epitaxial growth
Impurities
Oxygen
Precipitation (chemical)
Single crystals
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
直拉型Si单晶中金属杂质对氧沉淀行为的影响
沈波
杨凯
张序余
施洪涛
张荣
施毅
郑有炓
关口隆史
角野浩二
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997
1
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