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氧离子注入增强人工关节软骨材料—UHMWPE的耐磨性 被引量:16
1
作者 熊党生 《生物医学工程学杂志》 EI CAS CSCD 2003年第4期583-585,596,共4页
用高能离子注入机对超高分子量聚乙烯 (U HMWPE)进行了 O+注入改性 ,注入能量为 4 5 0 ke V和 10 0ke V,剂量分别为 1× 10 1 5/cm2 ,5× 10 1 5/cm2和 1× 10 1 6 /cm2。以 Si3N4 球为上销样 ,UHMWPE为下盘样组成摩擦副 ,... 用高能离子注入机对超高分子量聚乙烯 (U HMWPE)进行了 O+注入改性 ,注入能量为 4 5 0 ke V和 10 0ke V,剂量分别为 1× 10 1 5/cm2 ,5× 10 1 5/cm2和 1× 10 1 6 /cm2。以 Si3N4 球为上销样 ,UHMWPE为下盘样组成摩擦副 ,在销盘摩擦试验机上评价它们在干摩擦和蒸馏水润滑条件下的磨损性能。结果表明 ,几种注入工艺均增强了UHMWPE的耐磨性 ,但提高了其摩擦系数 ,其中以能量为 4 5 0 Ke V,剂量为 5× 10 1 5/cm2的注入样品耐磨性最好。未注入 U HMWPE的磨损主要表现为黏着、塑性变形和犁沟 ,注入 U HMWPE的磨损主要为表面硬化层疲劳裂纹的萌生、扩展。 展开更多
关键词 氧离子注入 人工关节软骨材料 UHMWPE 耐磨性
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氧离子注入增强尼龙1010的耐磨性 被引量:8
2
作者 熊党生 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2002年第5期60-63,共4页
用能量 4 5 0keV ,剂量 1× 10 15/cm2 和 5× 10 15/cm2 及能量 10 0keV ,剂量 3×10 16 /cm2 的氧离子分别对尼龙 10 10进行O+注入改性。以HastC合金球为上球样 ,分别与注入及未注入尼龙 10 10下盘样组成摩擦副 ,在销盘... 用能量 4 5 0keV ,剂量 1× 10 15/cm2 和 5× 10 15/cm2 及能量 10 0keV ,剂量 3×10 16 /cm2 的氧离子分别对尼龙 10 10进行O+注入改性。以HastC合金球为上球样 ,分别与注入及未注入尼龙 10 10下盘样组成摩擦副 ,在销盘摩擦试验机上评价它们在干摩擦及水润滑条件下的摩擦磨损行为。用扫描电镜 (SEM )观察注入及未注入样品磨损前后表面形貌。研究结果发现 :几种工艺的O+注入均增强了尼龙 10 10的耐磨性 ,提高注入能量比增加注入剂量对增强尼龙 10 10的耐磨性更有效。随着注入样品磨损量的减少 ,与其配摩合金球的磨损量增大。未注入样品的磨损主要表现为粘着、犁沟及塑性变形 ,注入样品的磨损主要为疲劳及三体磨粒磨损。 展开更多
关键词 耐磨性 尼龙1010 氧离子注入 摩擦磨损 聚合物材料
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一台专用强流氧离子注入机的研制 被引量:2
3
作者 唐景庭 伍三忠 +2 位作者 贾京英 郭健辉 刘咸成 《集成电路应用》 2003年第2期66-70,共5页
制备SOI材料的SIMOX技术因其工艺简单、易控制、重复性好、成本低、易向商业化过渡等优点而引起了SOI材料界更为广泛的关注。SIMOX技术所需要的最关键的设备就是大束流专用氧离子注入机。专用氧离子注入机与常规离子注入机有较大的区别... 制备SOI材料的SIMOX技术因其工艺简单、易控制、重复性好、成本低、易向商业化过渡等优点而引起了SOI材料界更为广泛的关注。SIMOX技术所需要的最关键的设备就是大束流专用氧离子注入机。专用氧离子注入机与常规离子注入机有较大的区别:注氧时间长,注入剂量大,注入过程中要求晶片保持600℃左右的高温,金属污染非常低。本文着重介绍一台专用强流氧离子注入机主要结构单元的研制方法及工艺试验结果分析。 展开更多
关键词 S0I材料 SIMOX技术 氧离子注入 高温靶室 离子 金属污染
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超强流氧离子注入机国内外现状及发展趋势 被引量:1
4
作者 颜亨迪 刘湘德 《电子工业专用设备》 1994年第2期15-18,共4页
本文概括介绍了超强流氧离子注入机的国内外现状及发展趋势,指出了国内在这一设备研制上的主要差距,对今后发展该设备提出自己的建议。
关键词 超强流 氧离子注入 离子注入
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SIMOX:氧离子注入隔离技术 被引量:1
5
作者 陈南翔 《微细加工技术》 1991年第3期58-64,共7页
过去十多年,SIMOX技术应用已得到证实。本文着重介绍了SIMOX技术及SIMOX结构的基本形成规律,论述了SIMOX技术在集成电路中,尤其是超薄层亚微米CMOS集成电路中的应用及其发展前景。
关键词 氧离子注入 隔离技术 SIMOX
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氧离子注入对金刚石薄膜微结构和力学性能的影响
6
作者 胡晓君 潘金平 陆利平 《超硬材料工程》 CAS 2009年第5期1-4,共4页
采用扫描电镜(SEM)、Raman光谱和纳米压痕法研究了氧离子注入对低硼掺杂金刚石薄膜微结构和力学性能的影响。结果表明,薄膜中注入较高剂量的氧离子并退火后,晶粒尺寸减小。氧离子注入导致薄膜中金刚石含量减小;1000℃退火后,薄膜中金刚... 采用扫描电镜(SEM)、Raman光谱和纳米压痕法研究了氧离子注入对低硼掺杂金刚石薄膜微结构和力学性能的影响。结果表明,薄膜中注入较高剂量的氧离子并退火后,晶粒尺寸减小。氧离子注入导致薄膜中金刚石含量减小;1000℃退火后,薄膜中金刚石含量增加为99.8%。氧离子注入后,薄膜中的内应力由拉应力转变为压应力;退火后,薄膜内应力再转变为拉应力。氧离子注入后的金刚石薄膜的硬度较注入前的薄膜硬度有所降低,但其硬度仍然大于40 GPa并具有良好的弹性恢复率。薄膜的力学性能与薄膜中的金刚石含量、晶粒尺寸和应力值有直接关系。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 氧离子注入 微结构 力学性能
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Ti6A14V合金等离子体基氧离子注入层的层状结构 被引量:2
7
作者 李金龙 马欣新 孙明仁 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第B08期279-283,共5页
采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6A14V合金进行表面改性。注入负脉冲电压分别为10、20、30、40、50kV,注入剂量为0.6×10^(17)ions/cm^2。用XPS分析了注氧层中元素的分布和化学态。结果显示,注入电压增加,氧的浓度深度分布增加。... 采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6A14V合金进行表面改性。注入负脉冲电压分别为10、20、30、40、50kV,注入剂量为0.6×10^(17)ions/cm^2。用XPS分析了注氧层中元素的分布和化学态。结果显示,注入电压增加,氧的浓度深度分布增加。注入氧元素的浓度深度分布曲线不同于束线式注入氧元素的类高斯分布,表面氧浓度最大,随着深度的增加出现一个略倾斜的氧浓度平台,该平台的宽度随注入电压增加而增加。氧离子注入引起基体元素Ti、Al、V的浓深分布发生变化,近表面区域Ti的原子百分含量减少,Al的含量增高,而V未检测到。并且随着注入电压的增加,近表面区域富集Al的浓度明显增加,富Al贫V的区域也明显加大。注入样品的改性层具有相似的层状结构,由表及里依次为表面污染层、TiO_2和Al_2O_3组成薄的外层、内层在改性层中占的比例最大,由TiO_2、Ti_2O_3、TiO、Ti、Al、Al_2O_3、V和VO组成。 展开更多
关键词 TI6AL4V 离子体基离子注入 X射线光电子能谱 层状结构
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氧离子注入微晶金刚石薄膜的微结构与光电性能研究 被引量:2
8
作者 王峰浩 胡晓君 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第15期439-445,共7页
本文系统研究了氧离子注入剂量和退火温度对含有Si-V发光中心的微晶金刚石薄膜的微结构和光电性能的影响.结果表明,氧离子注入并在较高温度退火有利于提高薄膜中Si-V中心的发光强度.当氧离子注入剂量从1014cm2增加到1015cm2时,薄膜中Si-... 本文系统研究了氧离子注入剂量和退火温度对含有Si-V发光中心的微晶金刚石薄膜的微结构和光电性能的影响.结果表明,氧离子注入并在较高温度退火有利于提高薄膜中Si-V中心的发光强度.当氧离子注入剂量从1014cm2增加到1015cm2时,薄膜中Si-V发光强度增强.Hall效应测试结果表明退火后薄膜的面电阻率降低.不同温度退火时,氧离子注入薄膜的Si-V发光强度较强时,薄膜的面电阻率增加,说明Si-V发光中心不利于提高薄膜的导电性能.Raman光谱测试结果表明,薄膜中缺陷数量的增多会增强Si-V的发光强度,而降低薄膜的导电性能. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 氧离子注入 电学性能 Si-V缺陷
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氧离子注入纳米金刚石薄膜的微结构和电化学性能研究 被引量:1
9
作者 王锐 胡晓君 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第14期370-377,共8页
在纳米金刚石薄膜中注入剂量为1012cm-2的氧离子,并进行700,800,900和1000?C的真空退火处理,系统研究薄膜的微结构和电化学性能结果表明,氧离子注入未退火(O120)和氧离子注入1000?C退火(O121000)电极的电势窗口分别为4.60 V和3.61 V,远... 在纳米金刚石薄膜中注入剂量为1012cm-2的氧离子,并进行700,800,900和1000?C的真空退火处理,系统研究薄膜的微结构和电化学性能结果表明,氧离子注入未退火(O120)和氧离子注入1000?C退火(O121000)电极的电势窗口分别为4.60 V和3.61 V,远大于其他电极的电势窗口,并且这两个样品的电极传质效率较高,说明氧离子注入和高温退火有利于提高电极的传质效率.红外光谱测试表明,样品O120和O121000的表面没有碳氢基团终止层,而其他样品均含有氢终止层,说明氧离子注入和高温退火破坏了薄膜表面含碳氢基团的氢终止层,提高了薄膜的电化学性能Raman光谱测试结果表明,金刚石含量较高、内应力较小和非晶石墨相无序化程度较大的样品具有较好的电化学性能;并且薄膜晶界处的非晶碳的团簇数量或者尺寸减小,样品的电化学性能提高. 展开更多
关键词 纳米金刚石薄膜 氧离子注入 电化学性能 微结构
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氧分子离子单独和组合注入对金属铀抗腐蚀性能的影响 被引量:2
10
作者 杨启法 卢浩琳 +4 位作者 徐虬 梅春 向德光 苏惠琴 倪然夫 《核科学与工程》 CSCD 北大核心 1998年第1期53-57,共5页
报道了氧分子离子注入表面形成的氧化膜对铸态金属α-U的抗腐蚀性能的影响。经注入和未注入试样的电化学、96℃饱和蒸汽腐蚀、50mg/1KCl溶液浸泡和室内大气环境下的腐蚀试验发现,氧分子离子单独和组合注入明显地改善了金... 报道了氧分子离子注入表面形成的氧化膜对铸态金属α-U的抗腐蚀性能的影响。经注入和未注入试样的电化学、96℃饱和蒸汽腐蚀、50mg/1KCl溶液浸泡和室内大气环境下的腐蚀试验发现,氧分子离子单独和组合注入明显地改善了金属铀的抗腐蚀性能。X-射线衍射试验证实氧离子注入在试样表面形成了UO2保护层。 展开更多
关键词 氧离子注入 金属铀 腐蚀 抗腐蚀性
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注入电压对Ti6A14V合金离子注氧层结构的影响
11
作者 马欣新 李金龙 孙明仁 《中国科技论文在线》 CAS 2008年第4期246-249,共4页
采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6A14V合金进行表面处理。注入电压选取-30和-50kV。注入层的结构用X射线光电子能谱、小掠射角X射线衍射、Raman光谱进行表征。注入样品在注氧层中均形成了以TiO_2为主的键结构,-30kV低电压注入样品的... 采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6A14V合金进行表面处理。注入电压选取-30和-50kV。注入层的结构用X射线光电子能谱、小掠射角X射线衍射、Raman光谱进行表征。注入样品在注氧层中均形成了以TiO_2为主的键结构,-30kV低电压注入样品的注氧层中TiO_2为非晶态,经过500℃真空退火后,TiO_2结晶形成金红石。而-50kV高注入电压则可在注氧层中直接形成粒径为nm的金红石。 展开更多
关键词 材料学 结构 离子体基氧离子注入 TI6A14V合金
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氧等离子体注入对PET亲水性及抗菌性能影响 被引量:2
12
作者 郭芳威 田修波 杨士勤 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期820-825,共6页
利用氧等离子体浸没离子注入技术对聚合物材料(PET)进行表面改性后接枝有机抗菌剂赋予PET薄膜抗菌性能.试验结果表明:PET薄膜表面接枝上的抗菌剂在改性表面呈针状分布.经氧等离子体处理后的PET薄膜表面水接触角从78°降低到33°... 利用氧等离子体浸没离子注入技术对聚合物材料(PET)进行表面改性后接枝有机抗菌剂赋予PET薄膜抗菌性能.试验结果表明:PET薄膜表面接枝上的抗菌剂在改性表面呈针状分布.经氧等离子体处理后的PET薄膜表面水接触角从78°降低到33°.红外光谱显示PET薄膜表面的分子结构被破坏,苯环的对位氢发生取代反应,分子链中形成了C-O亲水基团.氧等离子体的注入时间和注入电压均对抗菌持久性有重要的影响,较高的注入电压能够使PET薄膜表面获得较深的改性层,利于改性表面亲水性的保持.注入时间超过10min,电压超过-10kV的样品在空气中放置40天后的抗菌率仍能达到90%以上. 展开更多
关键词 离子体浸没离子注入 聚酯薄膜 接枝 抗菌
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钨、钼表面注入氧后的结构变化
13
作者 李惠萍 《中国钼业》 2004年第3期18-18,共1页
关键词 单晶 氧离子注入 晶体结构 次级离子质谱 电子衍射法
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基于SIMOX技术的高温压力传感器研制 被引量:3
14
作者 赵玉龙 赵立波 蒋庄德 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期149-151,共3页
应用氧离子注入 (Separation by Implantation of Oxygen) SIMOX技术 ,制作适合于高温环境条件下的固态压阻式硅隔离 (SOI)压力敏感元件。采用了一种新型梁膜结合封装工艺 ,有效地解决了被测压力高温冲击问题 ,可应用于航空、航天发动... 应用氧离子注入 (Separation by Implantation of Oxygen) SIMOX技术 ,制作适合于高温环境条件下的固态压阻式硅隔离 (SOI)压力敏感元件。采用了一种新型梁膜结合封装工艺 ,有效地解决了被测压力高温冲击问题 ,可应用于航空、航天发动机等恶劣环境下的压力测量。 展开更多
关键词 氧离子注入 SIMOX技术 高温压力传感器 研制 硅隔离 封装
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用于恶劣环境的耐高温压力传感器(英文) 被引量:4
15
作者 赵立波 赵玉龙 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期1460-1466,共7页
为了解决如高温200℃等恶劣环境下的压力测量问题,基于微机电系统(MEMS)和高能氧离子注入(SIMOX)技术,研制了一种量程为0~120kPa的压阻式压力传感器。该传感器芯片由硅基底、薄层二氧化硅、惠斯登电桥结构的硼离子注入层、氮化硅应力... 为了解决如高温200℃等恶劣环境下的压力测量问题,基于微机电系统(MEMS)和高能氧离子注入(SIMOX)技术,研制了一种量程为0~120kPa的压阻式压力传感器。该传感器芯片由硅基底、薄层二氧化硅、惠斯登电桥结构的硼离子注入层、氮化硅应力匹配层、钛-铂-金梁式引线层和由湿法刻蚀形成的空腔组成。在氧剂量1.4×1018/cm2和注入能量200keV条件下,由高能氧离子注入技术形成厚度为367nm的埋层二氧化硅层,从而将上部测量电路层和硅基底隔离开,解决了漏电流问题,使得传感器芯片可以在高温200 ℃以上的环境下使用。为了提高传感器在宽温度范围内的稳定性,对温度补偿工艺进行了研究,补偿后的传感器灵敏度温度系数和零位温度系数很容易控制在1×10-4/℃.FS。实验标定结果表明:在200 ℃下,研发的耐高温压力传感器具有很好的工作性能,其线性度误差达0.12%FS、重复性误差为0.1%FS、迟滞误差为0.12%FS,精度达0.197%FS,满足油井、风洞、汽车和石化工业等现代工业的应用需求。 展开更多
关键词 压力传感器 微机电系统 氧离子注入 恶劣环境 高温
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316L不锈钢制备FeAl/Al_2O_3防氚层的研究 被引量:1
16
作者 冯军 童洪辉 +4 位作者 金凡亚 但敏 沈丽如 陈美艳 赖新春 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期5101-5105,共5页
在316L不锈钢基体上,采用磁控溅射镀铝、热处理、氧离子注入复合工艺制备FeAl/Al2O3防氚层,并利用XRD、SEM、EDS分别对膜层进行了相结构、表面形貌、化学成分等分析。结果表明,磁控溅射制备了质量良好的铝膜,最佳工艺参数为温度170℃,... 在316L不锈钢基体上,采用磁控溅射镀铝、热处理、氧离子注入复合工艺制备FeAl/Al2O3防氚层,并利用XRD、SEM、EDS分别对膜层进行了相结构、表面形貌、化学成分等分析。结果表明,磁控溅射制备了质量良好的铝膜,最佳工艺参数为温度170℃,溅射功率1 400 W;热处理生成了含FeAl相的过渡层,并提高了膜基结合力,在700℃,120 min时,膜基结合力达到最大值62.5 N;最终由离子注入生成的Al2O3膜层由α、γ相组成,涂层厚度约360nm,抗热震性能较好,在600℃下该涂层使316L不锈钢的氘渗透率降低3个数量级。 展开更多
关键词 316L不锈钢 磁控溅射 热处理 氧离子注入 防氚
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真空退火对Ti6Al4V合金离子注氧层表面形貌和结构的影响 被引量:1
17
作者 李金龙 孙明仁 马欣新 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S1期107-110,共4页
采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6Al4V合金进行表面处理。注入电压选取-50 kV,注入剂量为4.5×1017 ions/cm2。氧离子注入后对注入样品进行不同温度的真空退火处理。真空退火后,样品表面形貌发生显著变化。随着退火温度增加,先后... 采用等离子体基氧离子注入技术对Ti6Al4V合金进行表面处理。注入电压选取-50 kV,注入剂量为4.5×1017 ions/cm2。氧离子注入后对注入样品进行不同温度的真空退火处理。真空退火后,样品表面形貌发生显著变化。随着退火温度增加,先后出现点状、条状缺陷和浅白色块状区。500℃真空退火后样品表面粗糙度变化不大,600℃真空退火后样品表面粗糙度急剧增加。真空退火导致注氧层中氧流失,并且不能在注氧层中析出结晶相。 展开更多
关键词 TI6AL4V合金 氧离子注入 表面形貌 结构
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背面多孔硅对SIMOX中铜杂质的吸除作用
18
作者 竺士炀 黄宜平 包宗明 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期420-424,共5页
在SIMOX材料的背面成功地制备了多孔硅层,再在正面故意注入1×1015cm-2剂量的铜杂质。经900℃退火,二次离子质谱(SIMS)测试表明钢杂质能穿过理层SiO2并在背面多孔硅处富集。用剖面投射电子显微镜(XTEM)分析了埋层SiO2和背面多... 在SIMOX材料的背面成功地制备了多孔硅层,再在正面故意注入1×1015cm-2剂量的铜杂质。经900℃退火,二次离子质谱(SIMS)测试表明钢杂质能穿过理层SiO2并在背面多孔硅处富集。用剖面投射电子显微镜(XTEM)分析了埋层SiO2和背面多孔硅层的微观结构,背面多孔硅层及其多孔硅层同硅衬底之间“树技状”的过渡区被认为是铜杂质有效的吸除中心。 展开更多
关键词 吸杂 多孔硅 氧离子注入隔离 绝缘体上硅 SOI
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PL and ESR study for defect centers in 4H-SiC induced by oxygen ion implantation
19
作者 Guo-Dong Cheng Ye Chen +1 位作者 Long Yan Rong-Fang Shen 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2017年第8期83-88,共6页
Radiation damage in 4H-SiC samples implanted by 70 keV oxygen ion beams was studied using photoluminescence and electron spin resonance techniques. ESR peak of g = 2.0053 and two zero-phonon lines were observed with t... Radiation damage in 4H-SiC samples implanted by 70 keV oxygen ion beams was studied using photoluminescence and electron spin resonance techniques. ESR peak of g = 2.0053 and two zero-phonon lines were observed with the implanted samples. Combined with theoretical calculations, we found that the main defect in the implanted 4H-Si C samples was oxygen-vacancy complex. The calculated defect formation energies showed that the oxygen-vacancy centers were stable in n-type 4H-Si C.Moreover, the V_(Si)O_C^0 and V_(Si)O_C^(-1) centers were optically addressable. The results suggest promising spin coherence properties for quantum information science. 展开更多
关键词 4H-SIC 氧离子注入 缺陷中心 ESR 电子自旋共振技术 量子信息科学 光致发光 辐射损伤
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Analysis and Determination of Refractive Index Profiles of O^2+ Ion-Implanted LiNbO3 Planar Waveguide Using Etching and Ellipsometry Techniques
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作者 刘汉平 卢霏 +7 位作者 王雪林 杨田林 吕英波 李延辉 刘祥志 张瑞锋 宋强 马学见 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2008年第1期156-159,共4页
3 兆电子伏 O-2 的折射索引侧面,在锂 niobate 的植入离子的平面波导基于蚀刻和 ellipsometry 技术被重建。SRIM2003 代码被用来在波导模仿损坏分发。这个索引这种波导介绍,这被表明,延长到深入地的几微米,能被与后面的 ellipsometr... 3 兆电子伏 O-2 的折射索引侧面,在锂 niobate 的植入离子的平面波导基于蚀刻和 ellipsometry 技术被重建。SRIM2003 代码被用来在波导模仿损坏分发。这个索引这种波导介绍,这被表明,延长到深入地的几微米,能被与后面的 ellipsometric 大小在联合蚀刻决定。好同意基于试验性的数据在波导和索引侧面在模仿的损坏分布之间被发现的 A,和折射索引障碍的宽度比 SRIM2003 的结果宽。 展开更多
关键词 平面波导 铌酸锂 氧离子注入 折射率 测量方法 椭圆光度法
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