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表面氧钝化碳化硅纳米团簇电子结构和光学性质的第一性原理研究 被引量:3
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作者 李晓春 吴远彬 +3 位作者 周翔 周润丰 曹学伟 王玉芳 《光散射学报》 北大核心 2010年第2期108-114,共7页
基于密度泛函理论(DFT)和广义梯度近似(GGA),对氧钝化条件下4H—SiC纳米团簇的电子结构和光学性质进行了研究。计算了不同直径的4H—SiC纳米球氧钝化后的能带结构、电子态密度和光学性质。团簇的尺度在0.4~0.9nm之间,构建表面... 基于密度泛函理论(DFT)和广义梯度近似(GGA),对氧钝化条件下4H—SiC纳米团簇的电子结构和光学性质进行了研究。计算了不同直径的4H—SiC纳米球氧钝化后的能带结构、电子态密度和光学性质。团簇的尺度在0.4~0.9nm之间,构建表面仅存在硅氧双键和表面仅存在碳氧双键的两种模型。研究表明硅氧双键和碳氧双键所引起的缺陷态位于原4H—SiC的价带和导带之间,并且缺陷态与价带顶的能量差随纳米团簇颗粒直径的增大而减小;缺陷态主要是由Si原子外层电子和氧原子外层电子轨道杂化引起的。同时,由于氧的存在,对碳化硅的结构产生一定的影响,这也是缺陷态形成的一个原因。另外,碳氧双键和硅氧双键钝化对4H~SiC纳米团簇的光学性质有着不同的影响。在表面仅存在C=O的情况下,4H—SiC纳米团簇表现出各向同性的性质。在表面仅存在Si=O的情况下,4H—SiC纳米团簇表现出各向异性的性质。 展开更多
关键词 第一性原理 硅纳米团簇 氧钝化 电子结构 光学性质
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氧钝化石墨纳米带电子和光学性质的第一性原理
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作者 鲁道邦 罗长更 +2 位作者 宋玉玲 潘群娜 濮春英 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 2016年第2期205-211,I0001,共8页
采用第一性原理方法,研究了氧原子钝化的扶手椅型石墨纳米带的结构、电磁特性和光学性质.氧原子钝化的石墨纳米带比氢原子钝化稳定,显示出金属性质.自旋极化计算的能带和态密度研究表明,该纳米带反铁磁态比铁磁态稳定,表现为反铁... 采用第一性原理方法,研究了氧原子钝化的扶手椅型石墨纳米带的结构、电磁特性和光学性质.氧原子钝化的石墨纳米带比氢原子钝化稳定,显示出金属性质.自旋极化计算的能带和态密度研究表明,该纳米带反铁磁态比铁磁态稳定,表现为反铁磁半导体特征.由于边沿钝化的氧原子的影响,该系统的介电函数有明显的红移,且第一个介电峰主要由最高价带贡献.介电函数、折射系数、吸收系数及能量损失等的峰值与电子跃迁吸收有关. 展开更多
关键词 第一性原理 电子性 光学性质 氧钝化 石墨纳米带
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干氧法钝化发射区改善硅太阳电池短波响应
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作者 李健 金国 +1 位作者 季秉厚 于光 《内蒙古大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1995年第3期365-366,共2页
干氧法钝化发射区改善硅太阳电池短波响应李健,金国,季秉厚,于光(内蒙古大学物理学系,010021,呼和浩特)ImprovingShortwaveResponseofSiSolarCellbytheDry-OxideP... 干氧法钝化发射区改善硅太阳电池短波响应李健,金国,季秉厚,于光(内蒙古大学物理学系,010021,呼和浩特)ImprovingShortwaveResponseofSiSolarCellbytheDry-OxidePassivationontheCe... 展开更多
关键词 硅电阳能电池 短波响应 氧钝化 发射区
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EDTA清洗中充氧钝化的电化学平衡
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作者 祝大庆 《华东电力》 北大核心 2001年第3期28-31,共4页
用电化学反应及 p H-pe平衡图分析了锅炉 EDTA清洗中充氧钝化的机理 。
关键词 锅炉 EDTA清洗 氧钝化 学平衡
原文传递
多孔硅在太阳能电池应用中的相关研究 被引量:3
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作者 王海燕 卢景霄 +4 位作者 吴芳 王子健 张宇翔 靳瑞敏 张丽伟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1075-1079,共5页
本文用化学腐蚀法在多晶硅基片上制作多孔硅,通过SEM、XPS对多孔硅的表面微结构及其组成进行了研究,定性地分析了氧在多孔硅层中的作用及主要热行为。分析了多孔硅用于太阳能电池时应注意的问题:多孔层微孔尺寸、太阳电池工艺中各热处... 本文用化学腐蚀法在多晶硅基片上制作多孔硅,通过SEM、XPS对多孔硅的表面微结构及其组成进行了研究,定性地分析了氧在多孔硅层中的作用及主要热行为。分析了多孔硅用于太阳能电池时应注意的问题:多孔层微孔尺寸、太阳电池工艺中各热处理过程的温度和时间、多孔层与电极材料是否形成欧姆接触及快速热氧化(RTO)的钝化效果。 展开更多
关键词 氧钝化 快速热处理(RTP) 快速热(RTO) 减反膜
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多孔硅量子点中的电子局域态 被引量:3
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作者 黄伟其 王晓允 +2 位作者 张荣涛 于示强 秦朝建 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期4652-4658,共7页
经过激光辐照和高温退火加工能够生成多孔硅样品,在650—780 nm处检测到很强的光致荧光(PL)峰,并且有明显的钉扎和增强效应.实验表明,这种PL发光的强度与样品受辐照和退火的时间长短密切相关.通过第一性原理模拟计算发现,样品表面用Si ... 经过激光辐照和高温退火加工能够生成多孔硅样品,在650—780 nm处检测到很强的光致荧光(PL)峰,并且有明显的钉扎和增强效应.实验表明,这种PL发光的强度与样品受辐照和退火的时间长短密切相关.通过第一性原理模拟计算发现,样品表面用Si O双键和Si—O—Si桥键钝化,能隙中会出现电子局域态.激光辐照和高温退火的时间长短决定了样品表面Si O双键和Si—O—Si桥键的密度,而该密度正是影响多孔硅量子点中电子局域态生成的关键. 展开更多
关键词 多孔硅量子点 氧钝化 电子局域态
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