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题名溅射氩分压对ITO透明导电薄膜光电特性的影响
被引量:5
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作者
杨田林
韩圣浩
高绪团
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机构
山东理工大学物理系
山东大学物理与微电子学院
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出处
《光电子技术》
CAS
2003年第2期78-82,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目 ( No.60 1 760 2 1 )
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文摘
用磁控溅射法在水冷 PPA聚脂胶片上制备了性能优良的 ITO透明导电膜。本文重点讨论了溅射氩分压对薄膜的结构和光电特性的影响 ,合适的氩分压为 0 .5 Pa,在此条件下 ,制备的薄膜最小电阻率为 4.6× 1 0 -4Ω· cm,相应的自由载流子霍耳迁移率有最大值为 75 cm2 /( V· s) ,在可见光范围内相对透过率为 80 %左右 ,在红外区 ,薄膜的等离子共振吸收波长随着氩分压的减小而变短。X射线衍射表明薄膜为多晶纤锌矿结构 ,垂直于衬底的 C轴具有 [2 2 2 ]方向的择优取向 ,随氩分压的增大 ,[40 0 ]峰开始增强 ,[2 2 2 ]峰被削弱 ,薄膜呈现出混晶结构。 XPS谱分析表明随溅射分压的减小 ,薄膜中的氧空位浓度增大 。
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关键词
磁控溅射
ITO透明导电薄膜
光电特性
氩分压
等离子体共振吸收
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Keywords
magnetron sputtering
argon partial pressure
plasma resonance absorption
electric properties
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分类号
TN304.055
[电子电信—物理电子学]
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题名溅射氩气压对TbFeCo薄膜磁和磁光性能的影响
被引量:3
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作者
王浩敏
林更琪
李震
李佐宜
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机构
华中科技大学电子科学与技术系
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出处
《磁性材料及器件》
CAS
CSCD
2003年第1期1-3,共3页
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文摘
研究了射频磁控溅射的溅射氩气压的变化对TbFeCo薄膜的磁和磁光特性的影响,以及不同溅射氩气压下TbFeCo薄膜退火后的特性。溅射氩气压的变化通过改变表面状态影响TbFeCo薄膜矫顽力和克尔角,另外,溅射氩气压的变化会影响被溅射原子轰击薄膜的速度,从而影响TbFeCo薄膜的垂直磁各向异性、矫顽力、磁光克尔效应。
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关键词
TbFeCo薄膜
射频磁控溅射
氩分压
磁光特性
磁光存储
矫顽力
克尔效应
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Keywords
TbFeCo thin films
RF magnetron sputtering
Ar pressure
magneto-optical properties
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分类号
O482.5
[理学—固体物理]
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